[发明专利]曝光装置有效
| 申请号： | 201910134999.1 | 申请日： | 2019-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN111352306B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 林建宏;陈泳超;许芷玮;李育升;曾绍崟 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 任岩 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种曝光装置，包括光学装置组以及衬底承载平台。光学装置组包括多个光源、至少一旋转式光束偏折元件以及至少一反射镜组。这些光源用以发出多个光束。每一反射镜组包括多个反射镜。衬底承载平台适于使设置于衬底承载平台上的曝光衬底沿着相对移动方向相对于光学装置组移动。这些光束依序经过至少一旋转式光束偏折元件以及这些反射镜而投射至曝光衬底上，其中通过至少一旋转式光束偏折元件的旋转，这些光束投射至曝光衬底上的轨迹形成多条扫描线。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
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