[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，包括：

光学装置组，包括：

多个光源，用以发出多个光束；

至少一旋转式光束偏折元件，适于旋转且具有至少一反射或折射面；以及

至少一反射镜组，每一反射镜组包括多个反射镜；以及

衬底承载平台，适于使设置于所述衬底承载平台上的曝光衬底沿着相对移动方向相对于所述光学装置组移动，其中所述相对移动方向垂直于所述至少一旋转式光束偏折元件的旋转轴的延伸方向，所述多个光束依序经过所述至少一旋转式光束偏折元件以及所述多个反射镜而投射至所述曝光衬底上，其中通过所述至少一旋转式光束偏折元件的旋转，所述多个光束投射至所述曝光衬底上的轨迹形成多条扫描线，所述多个扫描线不平行于所述曝光衬底的所述相对移动方向，

其中，每一所述至少一旋转式光束偏折元件的一侧所对应的部分的所述多个光束在所述曝光基板上的多个光斑形成一维阵列，所述多个光斑的排列方向不平行于所述多条扫描线且平行于所述旋转轴的延伸方向，

其中，所述多个扫描线的任两相邻者在所述相对移动方向上部分重叠或连续。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述旋转轴的延伸方向平行于所述曝光衬底的平面。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述多个反射镜为f-theta面镜。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述至少一旋转式光束偏折元件为反射式旋转面镜。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述至少一旋转式光束偏折元件为折射式旋转棱镜。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述多个反射镜的反射面朝向所述曝光衬底，且所述多个反射镜的中心轴在所述曝光衬底上的正投影的方向与所述至少一旋转式光束偏折元件的所述旋转轴的所述延伸方向以及所述曝光衬底的所述相对移动方向不同。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述多个扫描线的延伸方向与所述至少一旋转式光束偏折元件的所述旋转轴的所述延伸方向以及所述曝光衬底的所述相对移动方向不同。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述多个反射镜设置在垂直于所述至少一旋转式光束偏折元件的所述旋转轴的同一侧。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述多个反射镜设置在所述至少一旋转式光束偏折元件的所述旋转轴的相对两侧。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述多个反射镜的中心轴在所述曝光衬底上的正投影的方向彼此相同。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中所述多个扫描线的延伸方向彼此相同。

12.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述多个反射镜的中心轴在所述曝光衬底上的正投影的方向部分不同。

13.根据权利要求1所述的曝光装置，其中所述至少一旋转式光束偏折元件为多个旋转式光束偏折元件，且所述至少一反射镜组为多个反射镜组，所述多个反射镜组在所述多个光束的光路上分别对应所述多个旋转式光束偏折元件。