[发明专利]曝光装置

说明书

一种曝光装置，包括光学装置组以及衬底承载平台。光学装置组包括多个光源、至少一旋转式光束偏折元件以及至少一反射镜组。这些光源用以发出多个光束。每一反射镜组包括多个反射镜。衬底承载平台适于使设置于衬底承载平台上的曝光衬底沿着相对移动方向相对于光学装置组移动。这些光束依序经过至少一旋转式光束偏折元件以及这些反射镜而投射至曝光衬底上，其中通过至少一旋转式光束偏折元件的旋转，这些光束投射至曝光衬底上的轨迹形成多条扫描线。

技术领域

本发明涉及一种光学装置，尤其涉及一种曝光装置。

背景技术

曝光装置例如是电路板制作过程中用于曝光的设备。传统的曝光装置为间接成像，也就是使用掩模遮蔽曝光衬底表面再作曝光。然而，间接曝光的曝光装置必须制作具有电路图案的掩模，不但耗时且成本提高。反之，直接成像的曝光装置不需使用掩模，因此可减少电路板的制作时间且成本较低，因此渐渐成为市场上的主流。

直接成像的曝光装置采用激光印表机的原理，也就是激光单光源所发出的光束依序通过旋转式光束偏折元件以及聚光透镜，再投射至曝光衬底上。然而，当曝光装置的解析度的需求提高至微米等级时，单光源曝光架构将面临频宽不足的问题且扫描路径(放大倍率)过大，使得旋转式光束偏折元件的转速误差因此被放大。再者，由于扫描范围大，光束的光路相对复杂且需进行大量的误差补偿；因此开始出现多光源曝光装置。除此之外，现有的多光源曝光装置采用旋转式光束偏折元件的旋转轴倾斜于曝光衬底的相对移动方向的扫描方式。然而，旋转轴的倾斜会造成倾斜的扫描区域与呈矩形的曝光衬底的形状不对应的情形，导致需要额外地移动曝光衬底才能完整曝光，造成曝光时间拉长。

发明内容

本发明涉及一种曝光装置，其通过反射镜组控制，可让多组光源形成的扫描线部分重叠或连续，达到影像拼接的效果。

本发明的一实施例的曝光装置包括光学装置组以及衬底承载平台。光学装置组包括多个光源、至少一旋转式光束偏折元件以及至少一反射镜组。多个光源用以发出多个光束。至少一旋转式光束偏折元件适于旋转且具有至少一反射或折射面。每一反射镜组包括多个反射镜。衬底承载平台适于使设置于衬底承载平台上的曝光衬底沿着相对移动方向相对于光学装置组移动，其中相对移动方向实质上垂直于至少一旋转式光束偏折元件的旋转轴的延伸方向。这些光束依序经过至少一旋转式光束偏折元件以及这些反射镜而投射至曝光衬底上，其中通过至少一旋转式光束偏折元件的旋转，这些光束投射至曝光衬底上的轨迹形成多条扫描线，这些扫描线不平行于曝光衬底的相对移动方向。

基于上述，由于本发明实施例的曝光装置采用多个光源，因此每个光源的扫描路径的范围能有效被控制在误差范围内，且能有效地减少单光源曝光装置的频宽问题。再者，由于曝光装置的扫描范围能有效被控制且曝光装置的光路简单，因此光学补偿可以通过数字方式补偿，降低制造成本。而且，由于曝光衬底的相对移动方向实质上垂直于至少一旋转式光束偏折元件的旋转轴的延伸方向，而使扫描范围与曝光衬底的形状较为对应，因此可有效抑制曝光时间拉长的问题。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1是依据本发明实施例1的曝光装置的立体示意图。

图2是依照本发明实施例的曝光装置所产生的多条扫描线的一种示例。

图3是依照本发明实施例的曝光装置所产生的多条扫描线的另一种示例。

图4是依据本发明实施例2的曝光装置的立体示意图。

图5是依据本发明实施例3的曝光装置的立体示意图。

图6A是依据本发明实施例4的曝光装置的立体示意图。

图6B是依照图6A的曝光装置所产生的多条扫描线的一种示例。

图7是依据本发明实施例5的曝光装置的立体示意图。