[发明专利]一种螺旋式光阻涂布结构及其制备装置与方法在审

专利信息
申请号: 201910125864.9 申请日: 2019-02-20
公开(公告)号: CN109663693A 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 刘祥峰;周德榕;许原诚;陈洋 申请(专利权)人: 江苏汇成光电有限公司
主分类号: B05B13/04 分类号: B05B13/04;B05B13/02;G03F7/16;H01L21/027
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 董旭东
地址: 225128 江苏省扬州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了半导体封装制造业领域内的一种螺旋式光阻涂布结构及其制备装置与方法,包括晶圆,晶圆表面覆盖设置有处理溶剂层和光阻层,光阻层呈螺旋形;装置包括机身,机身上侧可转动地设置有圆形旋转台,机身内部设置有旋转驱动机构,旋转台上方设置有移动涂胶机构;制备方法包括如下步骤:先将晶圆放置在旋转台中心位置,真空吸盘将晶圆吸紧,喷胶手臂在晶圆上喷上处理溶剂,再控制旋转台保持转动,喷胶手臂移动至晶圆边缘处开始喷光阻,度径向朝晶圆中心移动,直到喷胶手臂移动到晶圆中心上方停止喷光阻。本发明能够降低光阻用量和减少光阻涂布时间,使得光阻更合理分布在晶圆表面,降低成本。
搜索关键词: 光阻 晶圆 光阻涂布 喷胶 处理溶剂 晶圆表面 晶圆中心 手臂移动 制备装置 光阻层 螺旋式 旋转驱动机构 半导体封装 圆形旋转台 机身内部 晶圆边缘 控制旋转 涂胶机构 真空吸盘 可转动 螺旋形 旋转台 机身 移动 上喷 制备 转动 手臂 制造业 覆盖
【主权项】:
1.一种螺旋式光阻涂布结构,包括晶圆,其特征在于,所述晶圆表面覆盖设置有处理溶剂层,所述处理溶剂层上方设置有光阻层,所述光阻层呈螺旋形, 螺旋形光阻层包括若干首尾相连的单元段,相邻的外层单元段尾端与内层单元段首端相连,外侧的相邻两个单元段之间的间距大于内侧的相邻两个单元段之间的间距。
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