[发明专利]壳体结构及其制造方法在审
| 申请号： | 201910117390.3 | 申请日： | 2019-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN111587005A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | 江湘湄;黄韦强;林嘉宏 | 申请（专利权）人： | 致伸科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K5/02 | 分类号： | H05K5/02;B44C5/04;B44C1/22 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 于磊;李慧慧 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种适用于电子装置的壳体结构，包括：具透光性的外壳、第一遮光层、第二遮光层、保护层及雕刻凹槽。第一遮光层形成于具透光性的外壳的第二表面。雕刻凹槽形成于具透光性的外壳的第二表面且未被第一遮光层覆盖。第二遮光层形成于具透光性的外壳第一表面。保护层形成于第二遮光层之上。所述雕刻凹槽则用以显示图样。 | ||
| 搜索关键词： | 壳体 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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