[发明专利]一种用于微纳米颗粒的快速循环原子层沉积设备

摘要

本发明属于镀膜设备制造领域，并公开了一种用于微纳米颗粒的快速循环原子层沉积设备，该设备由两个直线运动装置和两个回转运动装置首尾相连，组成一个封闭的椭圆形，其中直线运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的直线振动电机、第一水冷却板、第一支撑板、第一加热片和料槽，料槽的一端为原子层沉积反应区域，并且该区域上方安装有前驱体喷头；回转运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的回转振动电机、第二水冷却板、第二支撑板、第二加热片和回转运动料槽。本发明能够实现颗粒以稳定的运动速度在料槽中循环运动，并通过控制微纳米颗粒经过原子层沉积反应区域的次数，实现对微纳米颗粒表面薄膜的厚度的控制。

主权项

1.一种用于微纳米颗粒的快速循环原子层沉积设备，其特征在于，该设备包括两个直线运动装置和两个回转运动装置，所述直线运动装置与所述回转运动装置首尾相连，组成一个封闭的椭圆形，其中：所述直线运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的直线振动电机(1)、第一水冷却板(2)、第一支撑板、第一加热片(6)和料槽(7)，其中所述直线振动电机(1)用于提供周期性振动，所述第一水冷却板(2)用于降低所述直线振动电机(1)的温度，所述第一支撑板将所述第一水冷却板(2)与第一加热片(6)隔开，所述第一加热片(6)固定安装在所述料槽(7)背部，通过热传导的方式对该料槽(7)进行加热，进而加热其中的微纳米颗粒，所述料槽(7)的一端为原子层沉积反应区域，前驱体通过该端料槽(7)侧壁上的前驱体通道沿水平方向进入该原子层沉积反应区域，所述原子层沉积反应区域上方安装有前驱体喷头(8)，该前驱体喷头(8)侧壁设有前驱体进口，其底部设有前驱体出口，用于将前驱体沿竖直方向引入所述原子层沉积反应区域，并且所述前驱体出口之间开有贯穿性的排气槽，该前驱体喷头(8)上方固定有喷头抽气罩(10)用于抽除反应过程中的副产物和残余前驱体；所述回转运动装置包括沿竖直方向从下到上依次连接的回转振动电机(11)、第二水冷却板(12)、第二支撑板、第二加热片(16)和回转运动料槽(17)，其中所述回转振动电机(11)用于提供周期性回转振动，所述第二水冷却板(12)用于降低所述回转振动电机(11)的温度，所述第二支撑板将所述第二水冷却板(12)与第二加热片(16)隔开，所述第二加热片(16)固定安装在所述回转运动料槽(17)背部，通过热传导的方式对该回转运动料槽(17)进行加热，进而加热其中的微纳米颗粒，该微纳米颗粒沿所述回转运动料槽(17)的方向前进从而进入所述直线运动装置的料槽(7)中。