[发明专利]石英晶片的清洗方法及清洗装置在审
| 申请号： | 201910085018.9 | 申请日： | 2019-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN109647785A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 欧阳林;欧阳晟;韩何明;欧阳华 | 申请（专利权）人： | 广州晶优电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B13/00 |
| 代理公司： | 广州润禾知识产权代理事务所(普通合伙) 44446 | 代理人： | 林伟斌 |
| 地址： | 510663 广东省广州市高*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及石英晶片加工领域，具体公开了一种石英晶片的清洗方法以及适用于该方法的清洗装置，其中，上述清洗方法具体包括：先将石英晶片通过排片工序安装到镀膜夹具中后，再将镀膜夹具放入清洗液中进行清洗；上述适用于上述的清洗方法清洗装置包括一上开口的提篮，所述提篮设有若干用于插入安装镀膜夹具的导轨槽。本发明所提供清洗方法和清洗装置能够确保在清洗过程中，每片石英晶片具有独立的清洗空间，能够受到全方位的清洗，从而去除石英晶片表面的颗粒杂质、粘附尘埃等杂质，清洗效果优异，有助于提升后续镀膜质量。同时，清洗后的石英晶片也无需从镀膜夹具上拆下来，可直接进行后续的步骤，大大简化了后续步骤的复杂程度，提升了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 石英晶片 镀膜夹具 清洗装置 提篮 石英晶片表面 石英晶片加工 插入安装 颗粒杂质 排片工序 清洗过程 清洗空间 清洗效果 生产效率 导轨槽 清洗液 上开口 镀膜 放入 去除 粘附 | ||
【主权项】：
1.一种石英晶片的清洗方法，其特征在于，具体包括：先将石英晶片通过排片工序安装到镀膜夹具中后，再将镀膜夹具放入清洗液中进行清洗。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州晶优电子科技有限公司，未经广州晶优电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910085018.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：石英晶片的清洗方法
- 下一篇：一种油墨油渍的清除装置
