[发明专利]石英晶片的清洗方法及清洗装置

权利要求书

1.一种石英晶片的清洗方法，其特征在于，具体包括：先将石英晶片通过排片工序安装到镀膜夹具中后，再将镀膜夹具放入清洗液中进行清洗。

2.根据权利要求1所述的石英晶片的清洗方法，其特征在于，所述清洗步骤包括：将多片安装好石英晶片的镀膜夹具安装到清洗装置中，然后将所述清洗装置浸入到清洗液中进行清洗。

3.根据权利要求2所述的石英晶片的清洗方法，其特征在于，在所述清洗装置设置多个导轨槽，所述导轨槽用于插入安装所述镀膜夹具。

4.根据权利要求3所述的石英晶片的清洗方法，其特征在于，所述导轨槽呈多列/多行设置，且相邻的两列/行的导轨槽为交错排列。

5.根据权利要求1至4任一项所述的石英晶片的清洗方法，其特征在于，清洗之后还包括脱水和烤干步骤。

6.一种石英晶片的清洗装置，其特征在于，适用于根据权利要求1至5任一项所述的清洗方法，包括一上开口的提篮(32)，所述提篮(32)设有若干用于插入安装镀膜夹具(31)的导轨槽(402)。

7.根据权利要求6所述的石英晶片的清洗装置，其特征在于，所述提篮(32)的中部设置的若干加强侧板(403)，加强侧板(403)与提篮侧板将所述提篮(32)分为若干个分区，每个分区都设有若干所述导轨槽(402)。

8.根据权利要求7所述的石英晶片的清洗装置，其特征在于，所述加强侧板(403)两侧的导轨槽(402)为交错设置的。

9.根据权利要求6至8任一项所述的石英晶片的清洗装置，其特征在于，所述提篮(32)的侧板和/或底面设有开孔。

10.根据权利要求9所述的石英晶片的清洗装置，其特征在于，当所述提篮(32)设有加强侧板(403)时，每个分区都设有所述第一开窗孔(301)；所述提篮(32)的底部设有第二开窗孔(401)。