[发明专利]一种滤光结构及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 201910039622.8 | 申请日： | 2019-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN109491136A | 公开（公告）日： | 2019-03-19 |
| 发明（设计）人： | 宋晓欣;张锋;刘文渠;吕志军;董立文;崔钊;姚琪 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种滤光结构及其制备方法、显示装置，用以提高量子点滤光层的发光效率。本申请实施例提供的一种滤光结构，所述滤光结构包括：衬底基板以及位于所述衬底基板之上的多个滤光单元；至少部分所述滤光单元包括量子点滤光层以及包围所述量子点滤光层的反射结构。 | ||
| 搜索关键词： | 滤光结构 量子点 滤光层 衬底基板 滤光单元 显示装置 制备 发光效率 反射结构 申请 包围 | ||
【主权项】：
1.一种滤光结构，其特征在于，所述滤光结构包括：衬底基板以及位于所述衬底基板之上的多个滤光单元；至少部分所述滤光单元包括量子点滤光层以及包围所述量子点滤光层的反射结构。
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