[发明专利]用于高级光刻的微乳液去除剂在审

专利信息
申请号: 201910039419.0 申请日: 2019-01-16
公开(公告)号: CN110095954A 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: A·K·施密特;C·E·莫勒;K·M·奥康奈尔;C·J·图克;吕志坚;S·山田 申请(专利权)人: 陶氏环球技术有限责任公司;罗门哈斯电子材料有限责任公司
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋;胡嘉倩
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种微乳液去除剂,以所述微乳液去除剂的总重量计,其包含1)10%至60%,至少一种有机溶剂,ii)10%至50%,至少一种共溶剂,iii)0.1%至10%,至少一种碱,iv)0.1%至10%,至少一种氧化剂,v)0.1%至10%,至少一种表面活性剂和vi)水。
搜索关键词: 去除剂 微乳液 氧化剂 表面活性剂 有机溶剂 共溶剂 重量计 光刻
【主权项】:
1.一种微乳液去除剂,以所述微乳液去除剂的总重量计,其包含i)10%至60%,至少一种有机溶剂,ii)10%至50%,至少一种共溶剂,iii)0.1%至10%,至少一种碱,iv)0.1%至10%,至少一种氧化剂,v)0.1%至10%,至少一种表面活性剂和vi)水;其中所述有机溶剂选自水溶度小于10%的脂肪族醇和芳香族醇、二脂肪族酯、脂肪族烃、芳香族烃、脂肪族二酯、水溶度小于10%的脂肪族酮以及脂肪族醚;并且其中所述共溶剂是水溶度大于10%的脂肪族醇。
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