[发明专利]用于高级光刻的微乳液去除剂

权利要求书

1.一种微乳液去除剂，以所述微乳液去除剂的总重量计，其包含i)10％至60％，至少一种有机溶剂，ii)10％至50％，至少一种共溶剂，iii)0.1％至10％，至少一种碱，iv)0.1％至10％，至少一种氧化剂，v)0.1％至10％，至少一种表面活性剂和vi)水；

其中所述有机溶剂选自水溶度小于10％的脂肪族醇和芳香族醇、二脂肪族酯、脂肪族烃、芳香族烃、脂肪族二酯、水溶度小于10％的脂肪族酮以及脂肪族醚；并且其中所述共溶剂是水溶度大于10％的脂肪族醇。

2.根据权利要求1所述的微乳液去除剂，其中所述有机溶剂选自丙二醇单甲基醚乙酸酯、二丙二醇单甲基醚乙酸酯、三丙二醇单正丁基醚、丙二醇苯基醚、丙二醇二乙酸酯、二丙二醇二甲基醚、二乙二醇-丁基醚乙酸酯、乙二醇正丁基醚乙酸酯和乙二醇苯基醚。

3.根据权利要求1所述的微乳液去除剂，其中所述有机溶剂选自丙二醇苯基醚和乙二醇苯基醚。

4.根据权利要求1所述的微乳液去除剂，其中所述共溶剂选自丙二醇单甲基醚、二丙二醇单甲基醚、三丙二醇单甲基醚、丙二醇正丙基醚、二丙二醇正丙基醚、丙二醇正丁基醚、二丙二醇正丁基醚、二乙二醇乙基醚、二乙二醇甲基醚、二乙二醇正丁基醚、乙二醇丙基醚、乙二醇正丁基醚、三乙二醇单甲基醚、三乙二醇乙基醚和三乙二醇正丁基醚。

5.根据权利要求1所述的微乳液去除剂，其中所述共溶剂选自三乙二醇单甲基醚、三丙二醇单甲基醚和二丙二醇单甲基醚。

6.根据权利要求1所述的微乳液去除剂，其中所述表面活性剂是阴离子表面活性剂，其选自以下的盐：烷基苯磺酸盐、烷基甲苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、石油磺酸盐、烷基硫酸盐、烷基聚乙氧基醚硫酸盐、链烷烃磺酸盐、α-烯烃磺酸盐、α-磺基羧酸盐和其酯、烷基甘油基醚磺酸盐、脂肪酸单甘油酯硫酸盐和磺酸盐、烷基酚聚乙氧基醚硫酸盐、2-酰氧基-烷烃-1-磺酸盐、脂肪酸盐、硫酸化油和β-烷氧基烷烃磺酸盐。

7.根据权利要求1所述的微乳液去除剂，其中所述表面活性剂是式R_xB-SO₃M的阴离子表面活性剂，其中R表示烷基，x是1或2，当x是1时B是二价基团或当x是2时B是三价基团，并且其衍生自芳香族部分；并且其中M表示氢或阳离子抗衡离子，并且其中所述式R_xB-SO₃M的阴离子表面活性剂中的总碳数为18至30。

8.根据权利要求1所述的微乳液去除剂，其中所述阴离子表面活性剂具有大于400的分子量。

9.根据权利要求1所述的微乳液去除剂，其中所述碱选自碱金属氢氧化物、有机氢氧化铵和烷醇胺。

10.根据权利要求1所述的微乳液去除剂，其中所述氧化剂选自有机或无机过氧化物、臭氧、溶解氧、酸和卤素气体。