[发明专利]扫描检查系统和扫描检查方法在审

专利信息
申请号: 201910009034.X 申请日: 2019-01-04
公开(公告)号: CN109471187A 公开(公告)日: 2019-03-15
发明(设计)人: 许艳伟;喻卫丰;胡煜;宗春光;孙尚民 申请(专利权)人: 清华大学;同方威视科技(北京)有限公司;同方威视技术股份有限公司
主分类号: G01V5/00 分类号: G01V5/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 张靖靖;艾春慧
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种扫描检查系统和扫描检查方法,其中扫描检查系统,包括:检测装置,用于检测被检物(2;2′)的防护属性;扫描装置(1),可动地设置,用于在运动的过程中发射扫描射线以对所述被检物(2;2′)进行扫描检查,其具有至少两个工作模式,每个所述工作模式对应的扫描射线的剂量与其他所述工作模式对应的扫描射线的剂量不同;和控制装置,用于根据所述检测装置所检测的所述被检物(2;2′)的防护属性调节所述扫描装置(1)的工作模式。本发明可以根据被检物的防护属性实现针对性检查,有效保护需要避让的被检物,同时避免漏检;可以适应倒车以及混编等复杂情况。
搜索关键词: 扫描检查 被检物 工作模式 检测装置 扫描射线 扫描装置 防护 倒车 发射扫描 控制装置 属性调节 检测 避让 混编 可动 漏检 射线 检查
【主权项】:
1.一种扫描检查系统,其特征在于,包括:检测装置,用于检测被检物(2;2′)的防护属性;扫描装置(1),可动地设置,用于在运动的过程中发射扫描射线以对所述被检物(2;2′)进行扫描检查,其具有至少两个工作模式,每个所述工作模式对应的扫描射线的剂量与其他所述工作模式对应的扫描射线的剂量不同;和控制装置,用于根据所述检测装置所检测的所述被检物(2;2′)的防护属性调节所述扫描装置(1)的工作模式。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;同方威视科技(北京)有限公司;同方威视技术股份有限公司,未经清华大学;同方威视科技(北京)有限公司;同方威视技术股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910009034.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top