[发明专利]YAG板条激光晶体反射面形加工方法在审
| 申请号： | 201910000515.4 | 申请日： | 2019-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN109623507A | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 程鑫;魏朝阳;邵建达;曹俊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B13/00;B24B49/12 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种YAG板条激光晶体反射面形加工方法，本发明通过传统研磨、抛光和磁流变数控抛光结合，克服了板条上下盘带来的形变问题，可以有效的控制板条激光晶体的加工精度，加工出用于高功率板条激光器的板条激光晶体，反射面形PV≤λ/6。 | ||
| 搜索关键词： | 激光晶体 板条 面形 反射 加工 板条激光器 数控抛光 研磨 抛光 形变 磁流变 高功率 控制板 | ||
【主权项】：
1.一种YAG板条激光晶体反射面形加工方法，其特征在于该方法包括下列步骤：1)单轴机研磨抛光：利用传统单轴机研磨抛光晶体第一面，利用激光干涉仪检测抛光后的第一面反射面形，当第一面反射面形精度达到0.5λ～1λ时，完成第一面反射面形加工；将第一面真空吸附在光胶板上，利用传统单轴机研磨抛光晶体第二面，利用激光干涉仪检测抛光后的第二面反射面形，当第二面反射面形精度达到0.5λ～1λ，时，完成第二面反射面形加工，将晶体从光胶板上下盘；2)环抛抛光：通过陪抛片对环抛机进行校正，控制环境温度在20±2℃范围，利用环抛机对陪抛片进行抛光，通过激光干涉仪检测陪抛片的反射面形，当反射面形大于0.3λ时，继续抛光；当反射面形小于0.3λ时，校正完毕，立即取下陪抛片，分别对晶体的两个单面进行环抛加工，当两个单面反射面形精度达到0.3λ～0.5λ时，完成环抛加工；3)磁流变数控加工：控制环境温度在20±2℃范围，利用磁流变抛光机对晶体的两个单面分别进行抛光，利用激光干涉仪检测抛光后的两个单面反射面形，当两个单面反射面形PV≤λ/6时，磁流变抛光完毕；4)晶体加工结束。
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