[发明专利]CMP抛光垫调节器有效
| 申请号： | 201880087576.2 | 申请日： | 2018-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN111655428B | 公开（公告）日： | 2022-12-16 |
| 发明（设计）人： | R·K·辛格;D·辛格 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司;佛罗里达大学研究基金会公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017;B24B53/12 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李婷 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种处理化学机械抛光CMP垫调节器的方法，其包含：提供包含调节器衬底和浆料的所述CMP垫调节器，所述调节器衬底是具有接合到所述调节器衬底的顶面且维氏硬度大于3,000Kg/mm |
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| 搜索关键词： | cmp 抛光 调节器 | ||
【主权项】：
暂无信息
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