[发明专利]具有倾斜周期性结构的计量目标及方法在审
| 申请号： | 201880085027.1 | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN111542784A | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | F·约埃尔;M·吉诺乌克;A·斯维泽尔;V·莱温斯基;I·塔尔西斯-沙皮尔 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明揭示计量目标、其设计方法及测量方法，所述目标具备相对于光刻工具的正交产生轴X及Y倾斜的周期性结构，从而实现具有对角线(倾斜(oblique/tilted))元件的装置(例如DRAM装置)的更准确叠加测量。一或多个倾斜周期性结构可用于提供关于一或多个层的一维或二维信号，从而可能提供针对应用到一个层的多个步骤的叠加测量。所述倾斜周期性结构可用于修改当前计量目标设计(例如，成像目标及/或散射测量目标)或设计新的目标，且可分别调整测量算法以从所述倾斜周期性结构导出信号及/或提供其预处理图像。所揭示的目标是过程兼容的且更准确地反映关于各种过程步骤的装置叠加。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 倾斜 周期性 结构 计量 目标 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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