[发明专利]X射线成像装置有效
| 申请号： | 201880082441.7 | 申请日： | 2018-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN111566471B | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 佐野哲;木村健士;白井太郎;土岐贵弘;堀场日明;森本直树 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | G01N23/041 | 分类号： | G01N23/041;G01N23/201 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 该X射线成像装置(100)具备：旋转机构(8)，其使由X射线源(1)、检测器(5)、第一光栅(2)以及第二光栅(3)构成的摄像系统(200)相对地旋转；以及图像处理部(6)，其在多个旋转角度的各个旋转角度下基于X射线的强度分布来生成暗场像。而且，图像处理部(6)构成为实施使暗场像的多个像素中的、暗场信号比阈值(V1)大的像素的暗场信号降低到设定值(V2)的散射校正。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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