[发明专利]X射线成像装置有效
申请号: | 201880082441.7 | 申请日: | 2018-11-06 |
公开(公告)号: | CN111566471B | 公开(公告)日: | 2023-06-16 |
发明(设计)人: | 佐野哲;木村健士;白井太郎;土岐贵弘;堀场日明;森本直树 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N23/041 | 分类号: | G01N23/041;G01N23/201 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 成像 装置 | ||
1.一种X射线成像装置,具备:
X射线源;
检测器,其检测从所述X射线源照射的X射线;
多个光栅,所述多个光栅设置在所述X射线源与所述检测器之间,包括第一光栅和第二光栅;
旋转机构,其使被摄体与摄像系统相对地旋转,所述摄像系统由所述X射线源、所述检测器以及所述多个光栅构成;以及
图像处理部,其基于在通过所述旋转机构进行了旋转的情况下的多个旋转角度的各个旋转角度下由所述检测器检测出的X射线的强度分布,来生成由X射线的散射引起的暗场像,
其中,所述图像处理部构成为实施使以下像素的基于X射线的散射强度的值降低到规定的设定值的散射校正:所述暗场像的多个像素中的、所述基于X射线的散射强度的值比规定的阈值大的所述像素。
2.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述图像处理部构成为:在所述散射校正中,将所述基于X射线的散射强度的值比所述规定的阈值大的所述像素的所述基于X射线的散射强度的值设定为所述规定的阈值。
3.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述被摄体包括纤维束,
所述第一光栅具有第一光栅构成部分,
所述第二光栅具有沿着所述第一光栅构成部分所延伸的方向延伸的第二光栅构成部分,
所述图像处理部构成为:在所述旋转机构的旋转轴延伸的方向与所述第一光栅构成部分及所述第二光栅构成部分各自延伸的方向一致的情况下,对包括所述纤维束的所述被摄体的所述暗场像进行所述散射校正。
4.根据权利要求3所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述纤维束包括沿规定方向延伸的第一纤维束以及沿着与所述规定方向不同的方向延伸的第二纤维束,
所述图像处理部构成为:通过所述散射校正,使基于由所述第一纤维束引起的所述X射线的散射强度的值和基于由所述第二纤维束引起的所述X射线的散射强度的值的合计值降低到所述规定的设定值。
5.根据权利要求4所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述第一纤维束和所述第二纤维束中的一方被设置为沿着所述第一光栅构成部分和所述第二光栅构成部分各自延伸的方向延伸,所述第一纤维束和所述第二纤维束中的另一方被设置为沿着从正面观察所述第一光栅和所述第二光栅时与所述第一光栅构成部分及所述第二光栅构成部分各自延伸的方向正交的方向延伸。
6.根据权利要求3所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述图像处理部构成为:在所述旋转机构的旋转轴延伸的方向与所述第一光栅构成部分及所述第二光栅构成部分各自延伸的方向一致的情况下,对所述多个旋转角度的各个旋转角度下的所述暗场像进行所述散射校正,并且对所述多个旋转角度的各个旋转角度下的被进行了所述散射校正的所述暗场像进行重构,由此生成第一立体暗场数据。
7.根据权利要求6所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述图像处理部构成为能够受理是否实施所述散射校正的变更,并且所述图像处理部构成为:在从正面观察所述第一光栅和所述第二光栅时、所述旋转轴延伸的方向与所述第一光栅构成部分及所述第二光栅构成部分各自延伸的方向大致正交的情况下,对所述多个旋转角度的各个旋转角度下的所述暗场像不进行所述散射校正而进行重构,由此生成第二立体暗场数据,并且将所述第一立体暗场数据和所述第二立体暗场数据进行组合来获取所述被摄体的立体像。
8.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述图像处理部构成为能够受理所述规定的设定值的变更。
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