[发明专利]测量方法、图案化设备以及设备制造方法有效
| 申请号： | 201880078216.6 | 申请日： | 2018-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN111433678B | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | F·斯塔尔斯;E·J·A·布劳沃;C·C·M·卢杰滕;J-P·A·H·M·瓦森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种聚焦量测目标包括一个或多个周期性阵列的特征(TH、TV、T)。对光刻装置的聚焦性能的测量至少部分地基于从聚焦量测目标获得的衍射信号。每个周期性阵列的特征包括与第二区域交错的重复布置的第一区域，第一区域和第二区域中的特征密度不同。每个第一区域包括重复布置的第一特征(806、906、1106、1108、1206、1208、1210、1406、1408、1506、1508、1510)。每个第一特征的最小尺寸接近于但不小于由光刻装置进行的印刷的分辨率极限，以便在给定工艺环境中符合设计规则。高特征密度的区可以进一步包括重复布置的更大特征(1420、1520)。 | ||
| 搜索关键词： | 测量方法 图案 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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