[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201880077281.7 | 申请日： | 2018-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN111418270A | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 安东靖典 | 申请（专利权）人： | 日新电机株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/509;H01L21/3065;H01L21/31 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明是使天线导体冷却而稳定地产生等离子体，并且一面使与天线导体连接的可变电容器冷却，一面抑制其静电电容的意外的变动。一种等离子体处理装置，在真空容器内产生等离子体，利用所述等离子体对基板进行处理，所述等离子体处理装置包括：天线导体，被流入高频电流，用以产生等离子体；以及可变电容器，与所述天线导体电连接，且所述天线导体在内部具有冷却液所流动的流路，所述可变电容器的介电质包括在所述天线导体内流动的冷却液。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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