[发明专利]量测方法有效
| 申请号： | 201880065666.1 | 申请日： | 2018-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN111201489B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | N·加瓦赫里;M·哈吉阿玛迪;M·博兹库尔特;A·达科斯塔·埃萨弗劳;M·J·诺特;S·G·J·马斯杰森;廉晋 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/47;H01L23/544 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于测量与具有至少两个层的结构有关的感兴趣参数的方法和相关联的装置。方法包括利用测量辐射照射该结构并且检测由上述结构散射的散射辐射。散射辐射包括正常和互补的更高衍射阶。限定将散射辐射参数与至少一个感兴趣参数关联的散射测量模型和将散射辐射参数与至少一个不对称参数关联的不对称模型，该不对称参数与一个或多个测量系统误差和/或目标中的除两个层之间未对准之外的不对称有关。散射测量模型和不对称模型的组合被用于确定方程组，然后针对感兴趣的参数对方程组求解。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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