[发明专利]量测方法

权利要求书

1.一种测量与具有至少两个层的结构有关的感兴趣参数的方法，包括：

利用测量辐射照射所述结构并且检测已被所述结构散射的散射辐射，其中所述散射辐射包括正常和互补的更高衍射阶；

限定与所述结构有关的散射测量模型和不对称模型，其中：

所述散射测量模型将散射辐射参数与至少感兴趣参数关联；以及

所述不对称模型将所述散射辐射参数与至少一个不对称参数关联，所述至少一个不对称参数与一个或多个测量系统误差和/或目标中的、除所述两个层之间的未对准之外的不对称有关；

使用所述散射测量模型和所述不对称模型的组合来确定方程组，所述方程组中的每个方程与针对所述散射辐射参数的一组测量值的不同测量值有关，所述一组测量值至少包括针对所述正常和互补更高衍射阶中的每个衍射阶的不同测量值；以及

针对所述感兴趣参数对所述方程组求解。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述照射和检测步骤针对两个或多个波长而被执行，并且针对所述散射辐射参数的所述一组测量值包括针对与所述两个或多个波长中的每个波长有关的所述正常和互补更高衍射阶中的每个衍射阶的测量值。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述照射和检测步骤是使用包括所述两个或多个波长的多波长测量辐射的单个步骤。

4.根据权利要求2所述的方法，其中所述照射和检测步骤包括针对所述两个或多个波长中的每个波长的单独的照射和检测步骤。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的方法，其中所述照射和检测步骤仅针对一对波长而被执行，并且所述一对波长中的波长被最小阈值间隔分离，并且其中所选择的波长中的每个波长显示高于最小阈值堆叠灵敏度的堆叠灵敏度。

6.根据前述权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述感兴趣的参数包括刻套，并且所述两个层之间的所述未对准包括刻套和有意偏差的组合。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述结构包括具有至少两个周期性子目标的目标，每个子目标具有不同的有意偏差，并且针对所述散射辐射参数的所述一组测量值包括针对与每个子目标有关的所述正常和互补的更高衍射阶中的每个衍射阶的测量值。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述至少两个子目标各自具有相等幅度但相反方向的有意偏差。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其中所述至少两个周期性子目标包括线上线的周期性子目标，其中包括所述线上线的周期性子目标的光栅的线除所述有意偏差所施加的偏移之外实质上被对准，并且所述结构还包括至少两个附加的空间上线的周期性子目标，除了相应的所述线上线的周期性子目标的所述有意偏差之外，附加的空间上线的周期性子目标各自具有所述光栅节距一半的偏差。

10.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述结构包括单个目标，并且所述求解方程组包括：针对一个或多个依赖于目标的参数估算值；并且将所估算的所述值用作求解步骤中的约束。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所估算的所述值从以下任一项中获得：

包括两个目标的目标结构；或

两个接近的单个目标，所估算的所述值被约束，以将两个接近的单个目标之间的所估算的所述值的变化最小化。

12.根据权利要求1、2、3、4、7、8或11中任一项所述的方法，其中所述至少一个不对称参数包括与所述目标中的、除所述两个层之间的所述未对准的不对称有关的单个不对称参数。

13.根据权利要求12所述的方法，包括执行检测器校准以对所述测量系统误差进行校正的初始步骤。