[发明专利]控制设备、光刻装置、测量装置、处理装置、平坦化装置以及物品制造方法有效

专利信息
申请号: 201880064741.2 申请日: 2018-09-12
公开(公告)号: CN111183397B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 浅野俊哉;中野浩太 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00;G05B11/36;G05B13/02;H01L21/027;H01L21/68
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 马景辉
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种反馈控制设备,其将与受控对象的测量值与期望值之间的控制偏差相关的信息作为输入并输出用于受控对象的操纵变量。该反馈控制设备具有:第一控制单元,其接受关于控制偏差的信息作为输入,并输出用于该受控对象的操纵变量;第二控制单元,其以关于控制偏差的信息接受为输入,并包括学习控制单元,对于该学习控制单元,由机器学习确定用于输出用于受控对象的操纵变量的参数;以及加法器,其用于将从第一控制单元输出的第一操纵变量和从第二控制单元输出的第二操纵变量相加;来自加法器的操纵变量被输出到受控对象,第二控制单元具有用于限制第二操纵变量的限制器。
搜索关键词: 控制 设备 光刻 装置 测量 处理 平坦 化装 以及 物品 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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