[发明专利]用于光刻设备的控制系统有效
| 申请号： | 201880060643.1 | 申请日： | 2018-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN111095041B | 公开（公告）日： | 2022-06-28 |
| 发明（设计）人： | F·C·D·德纳维尔;A·S·特奇科夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;G03F7/20;G02B26/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种控制系统配置成调整束或辐射的波前。所述控制系统具有限定所述束的传播路径的一部分的一对反射镜。所述反射镜中的每个反射镜具有轮廓化的反射表面，其配置成造成束的波前的变化。所述反射镜被定位成这样的方式：使所述反射镜相对于彼此旋转从而能够调整波前而不影响所述传播路径。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 控制系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880060643.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
