[发明专利]表面突起抛光垫有效
| 申请号： | 201880054222.8 | 申请日： | 2018-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN111032285B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 陈联舜;埃里克·C·科德;贾斯廷·W·勒巴肯 | 申请（专利权）人： | 3M创新有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李新红 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种制品，该制品包括表面层和联接到表面层的至少一部分的基底层。表面层包括限定平面的顶部主表面和与顶部主表面相对的底部主表面。多个突起从顶部主表面的平面延伸，并且多个微结构从所述多个突起延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 突起 抛光 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司，未经3M创新有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880054222.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 研磨垫-202280015016.2
- 立野哲平;糸山光纪;関谷仁志;小池坚一;高见沢大和 - 富士纺控股株式会社
- 2022-02-18 - 2023-10-13 - B24B37/26
- 本发明可抑制对研磨性能的影响，并且防止由终点检测用窗所得的终点检测精度的降低。研磨垫3包括检查光L1可透过的终点检测用窗12，在研磨垫3的研磨面3A形成有多个同心圆状的环状槽11。所述终点检测用窗12的表面形成于与所述研磨面3A相同的高度，所述环状槽11中，形成于与形成有所述终点检测用窗12的位置相同的半径位置的多个环状槽11A在所述终点检测用窗12的表面未形成有槽，而在所述终点检测用窗12的附近包括端部11a。进而，通过连结槽13将形成于与所述终点检测用窗12相同的半径位置的多个环状槽11A的端部11a与端部11a连接。
- 研磨垫-201980007751.7
- 尾関晃 - 霓达杜邦股份有限公司
- 2019-01-11 - 2023-05-12 - B24B37/26
- 本发明为研磨垫，其被供给研磨料浆且能够边旋转边对被研磨物进行研磨，该研磨垫具有研磨层，所述研磨层具有能够对所述被研磨物进行研磨的研磨面，所述研磨面具有非接触部，所述非接触部具有凹部及贯穿所述研磨层的贯穿孔的至少一方，所述凹部及贯穿所述研磨层的贯穿孔被配置在以对所述被研磨物进行研磨时旋转的旋转中心作为中心、且具有所希望的长度的半径的同心圆上。
- 具有增强的共平面性的微复制型抛光表面-201880050836.9
- 肯尼思·A·P·梅耶;约翰·J·沙利文;布赖恩·W·利克;D·K·勒胡;大卫·J·穆拉迪安;大卫·F·斯拉马 - 3M创新有限公司
- 2018-08-02 - 2022-11-04 - B24B37/26
- 一种制品包括抛光层，该抛光层包括由多个通道分隔的多个凸起单元。该多个凸起单元中的每个包括：微结构化工作表面；基本上竖直的通道表面；以及偏移表面，该偏移表面位于工作表面的边缘与通道表面的上边缘之间。微结构化工作表面包括多个微结构。该多个微结构的顶部限定顶部平面，并且该多个微结构的基部限定基部平面。基本上竖直的通道表面限定多个通道中的通道的壁，并且通道表面限定通道平面。偏移表面包括移位的材料的非平面部分。移位的材料限定位于基部平面的下方或位于顶部平面的容差内的移位平面。
- 具有选择性排列的孔隙度的抛光垫-202080089013.4
- 阿尼鲁德·贾格迪什·坎纳;贾森·G·冯;普尼特·纳伦德拉·贾瓦利;拉吉耶夫·巴贾杰;亚当·韦德·曼佐尼;南丹·巴拉达纳哈里·肯查帕;维拉·拉哈瓦·雷迪·卡基雷迪;安俊镐;金载晳;马尤·亚曼 - 应用材料公司
- 2020-11-20 - 2022-08-02 - B24B37/26
- 本文提供具有在聚合物材料的连续相内的变化孔隙度的离散和选择性排列区域的抛光垫。在一个实施方式中，抛光垫的特征为多个抛光元件，每一个抛光元件包括抛光表面和从抛光表面向下延伸以界定设置在抛光元件之间的多个通道的侧壁，其中一个或多个抛光元件是由聚合物材料的连续相所形成的，聚合物材料的连续相具有包括第一孔隙度的一个或多个第一区域和包括第二孔隙度的第二区域，其中第二孔隙度小于第一孔隙度。
- 表面突起抛光垫-201880054222.8
- 陈联舜;埃里克·C·科德;贾斯廷·W·勒巴肯 - 3M创新有限公司
- 2018-08-21 - 2022-07-19 - B24B37/26
- 本发明提供了一种制品，该制品包括表面层和联接到表面层的至少一部分的基底层。表面层包括限定平面的顶部主表面和与顶部主表面相对的底部主表面。多个突起从顶部主表面的平面延伸，并且多个微结构从所述多个突起延伸。
- 抛光制品、抛光系统和抛光方法-202080074566.2
- 陈联舜;詹姆斯·P·伯克;贾斯廷·W·勒巴肯 - 3M创新有限公司
- 2020-10-29 - 2022-06-07 - B24B37/26
- 本发明公开了一种抛光制品，该抛光制品包括具有工作表面的抛光层，该工作表面包括设置在工作表面上的至少一个多单元结构。多单元结构包括三个单元，被定义为第一单元、第二单元和第三单元。三个单元中的每一个单元包括限定单元形状的至少一个侧壁。第一单元和第二单元包括第一公共侧壁，该第一公共侧壁包括第一通道和第一轴线，第一通道具有第一通道长度，允许第一单元与第二单元之间的流体连通，第一轴线垂直于第一通道长度且基本上平行于工作表面。此外，第二单元和第三单元包括第二公共侧壁，该第二公共侧壁包括第二通道和第二轴线，第二通道具有第二通道长度，允许第二单元与第三单元之间的流体连通，第二轴线垂直于第二通道长度且基本上平行于工作表面。第一轴线与第二轴线之间的夹角为0°至小于180°。
- 晶片抛光设备的抛光垫以及用于其的制造方法-201880077085.X
- 安镇佑 - 爱思开矽得荣株式会社
- 2018-06-04 - 2021-12-21 - B24B37/26
- 本发明提供一种用于晶片抛光设备的抛光垫，该抛光垫包括：上垫，该上垫具有前表面部分、后表面部分和多个网格凹槽，前表面部分具有切割表面且与晶片接触、后表面部分定位在前表面部分的下部上、多个网格凹槽穿过前表面部分和后表面部分；下垫，该下垫布置在上垫的下部上且可以附连于表面板；以及粘合部，该粘合部定位在上垫与下垫之间以将上垫和下垫进行联接。
- 抛光垫的凹部形成方法以及抛光垫-201780048120.0
- 大石邦晴;海野达广 - 株式会社大辉
- 2017-02-06 - 2021-11-12 - B24B37/26
- [课题]提供一种满足针对凹部的用户要求的高品质的抛光垫。[解决手段]首先，在作业面(2a)上配置夹具(6)，该夹具具有与将要在抛光垫(7)的表面上形成的凹部的形状对应的凸出形状。接下来，将抛光垫(7)配置在配置有夹具(6)的作业面(2a)上。然后，经由吸引孔(2b)从背面对抛光垫(7)进行吸引，在使以浮起的状态由夹具的突出部(6b)支承的抛光垫(7)弯曲的同时，沿厚度方向部分地去除与夹具(6)的凸出形状对应地隆起的表面。由此，在抛光垫(7)的表面形成凹部。
- 抛光垫-201880001838.9
- 横田亘俊;杉山翔太;成松贵 - 古河电气工业株式会社
- 2018-03-27 - 2019-01-04 - B24B37/26
- 本发明的目的在于提供一种抛光垫，其具有优异的抛光性能和抛光浆料的排出特性。所述抛光垫在抛光面上具有抛光部和槽部，其中，所述槽部的表面具有未发泡部，所述抛光部的表面露出有发泡部。
- 非平面的玻璃抛光垫及制造方法-201380049109.8
- B·沐恩希;J·安德森;S·B·达斯奇维奇;G·J·瓦希尔兹克 - JH罗得股份有限公司
- 2013-06-10 - 2018-03-06 - B24B37/26
- 一种用来抛光具有非平面的部分的工件的抛光垫，该抛光垫包括抛光垫的第一侧面和第二侧面。第一侧面基本上是平的，而第二侧面构造成抛光非平面的工件。抛光垫还包括位于抛光垫中的同心的环形通道，其中，同心的环形通道包括通道表面，其中，抛光垫的第二侧面包括内表面、通道表面和外表面，且其中，通道表面相对于内表面和外表面凹进。抛光垫还包括多个位于同心的环形通道内的岛形物，其中，多个岛形物包括相对于通道表面升起的岛表面。
- 具有带具有渐变侧壁的连续突起的抛光表面的抛光垫-201480027574.6
- P·A·勒菲弗;W·C·阿里森;A·W·辛普森;D·斯科特;P·黄;L·M·查尔恩斯;J·R·莱因哈特;R·科普里希 - 嘉柏微电子材料股份公司
- 2014-03-05 - 2018-03-02 - B24B37/26
- 描述了具有带具有渐变侧壁的连续突起的抛光表面的抛光垫。还描述了制作具有带具有渐变侧壁的连续突起的抛光表面的抛光垫的方法。
- 用于支撑研磨盘的衬垫-201480017998.4
- 佐藤津纪夫 - 3M创新有限公司
- 2014-03-28 - 2017-12-15 - B24B37/26
- 本发明公开了一种用于通过与研磨盘一起固定到研磨机的轴上来支撑研磨盘的衬垫，所述衬垫包括与研磨盘相对的支撑表面。在径向方向上，支撑表面的外边缘位于研磨盘的外边缘的向内的位置处。支撑表面包括锥形部分，所述锥形部分随着接近支撑表面的外边缘而向远离研磨盘的方向倾斜。研磨盘未固定到锥形部分上。
- 具有多模态孔径分布的抛光垫-201180049789.4
- P·黄;D·斯科特;J·P·拉卡斯;W·C·阿里森 - 内克斯普拉纳公司
- 2011-10-11 - 2016-11-16 - B24B37/26
- 本发明描述了具有多模态孔径分布的抛光垫。还描述了制作具有多模态孔径分布的抛光垫的方法。在一示例中，一种用于抛光半导体衬底的抛光垫包括均质抛光主体。该均质抛光主体包括热固性聚氨酯材料和设置在热固性聚氨酯材料中的多个封闭单元孔。多个封闭单元孔具有多模态直径分布。
- 圆形状抛光垫-201380061943.9
- 木村毅 - 东洋橡胶工业株式会社
- 2013-12-04 - 2015-07-29 - B24B37/26
- 本发明的目的在于提供一种能够有效地抑制被抛光材料表面的抛光不匀的圆形状抛光垫。就本发明的圆形状抛光垫而言，其包括在抛光表面具有XY格子槽的圆形状抛光层，圆形状抛光层的中心点在由以下3条虚拟直线A、B和C包围的区域Z内(包括虚拟直线上的部分)偏移。其中，虚拟直线A为连接如下点的直线：使X槽或Y槽上的点在与该X槽或Y槽垂直相交的方向移动槽间距的5％距离的点；虚拟直线B为连接如下点的直线：使XY格子槽的一条对角线D上的点在与该对角线D垂直相交的方向移动槽间距的5％距离的点；虚拟直线C为连接如下点的直线：使XY格子槽的另一条对角线E上的点在与该对角线E垂直相交的方向移动槽间距的5％距离的点。
- 研磨垫-201280034910.0
- 竹内奈奈;福田诚司;奧田良治;笠井重孝 - 东丽株式会社
- 2012-07-12 - 2014-03-19 - B24B37/26
- 一种研磨垫，是至少具有研磨层和缓冲层的研磨垫，其特征在于，上述研磨层在研磨面具备槽，该槽具有侧面和底面，上述侧面的至少一方由第一侧面和第二侧面构成，第一侧面与上述研磨面连续，且与上述研磨面所成的角度为α，第二侧面与该第一侧面连续，且与平行于上述研磨面的面所成的角度为β，与上述研磨面所成的角度α大于90度，与平行于上述研磨面的面所成的角度β为85度以上，并且与平行于上述研磨面的面所成的角度β比与上述研磨面所成的角度α更小，从上述研磨面到上述第一侧面与上述第二侧面的曲折点为止的曲折点深度为0.4mm以上、3.0mm以下，上述缓冲层的应变常数为7.3×10-6μm/Pa以上、4.4×10-4μm/Pa以下。
- 具有同心或大致同心多边形槽图案的抛光垫-201280013062.5
- W·C·阿里森;D·斯科特;A·W·辛普森 - 内克斯普拉纳公司
- 2012-01-19 - 2013-12-04 - B24B37/26
- 描述了具有同心或大致同心的多边形槽图案的抛光垫。还描述了制造具有同心或大致同心的多边形槽图案的方法。
- 研磨垫-201280008992.1
- 竹内奈奈;福田诚司;奥田良治;笠井重孝 - 东丽株式会社
- 2012-02-08 - 2013-10-09 - B24B37/26
- 一种至少具有研磨层和垫层的研磨垫，在其研磨面上具有槽；研磨面和上述槽的与研磨面连续的侧面所成的角度的至少一方为105度以上、150度以下，上述垫层的应变常数为7.3×10－6μm/Pa以上、4.4×10－4μm/Pa以下；通过使用这样的研磨垫，能够解决在保持较高的研磨速率的同时抑制研磨速率的变动的课题。
- 专利分类
