[发明专利]基板处理方法以及基板处理装置

摘要

一种基板处理方法，包含：基板旋转工序，使被保持成水平的基板绕着在铅垂方向延伸的旋转轴线旋转；对向构件配置工序，使从上方与所述基板对向且包含了具有在俯视观察时围绕所述基板的内周面的延伸设置部的对向构件配置于以下位置：所述延伸设置部的内周面从以所述旋转轴线作为中心的径向的外方与所述基板对向的位置；对向构件旋转工序，使所述对向构件绕着所述旋转轴线旋转；处理液供给工序，对旋转状态的所述基板的上表面供给处理液；以及防护罩配置工序，根据所述处理液对于所述延伸设置部的内周面的亲和性，将防护罩配置于承接从所述基板的上表面朝向所述径向的外方飞散的所述处理液的高度位置，所述防护罩在俯视观察时在所述延伸设置部的所述径向的外方围绕所述基板。