[发明专利]曝光系统对准及校准方法有效
| 申请号： | 201880052616.X | 申请日： | 2018-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN111033386B | 公开（公告）日： | 2022-10-28 |
| 发明（设计）人： | 塔纳·科斯坤;钟钦 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一些方法，在一些实施方式中提供吸盘上的印刷板材的第一层的对准。举例来说，在一个实施方式中，捕获吸盘上的参考标记的影像，以确定吸盘上的这些参考标记的初始位置。从这些初始位置产生参考模型。捕获参考板材上的对准标记的影像，以及确定这些对准标记的位置。从这些对准标记的位置产生参考板材模型。接着从参考模型及参考板材模型产生映射模型。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 系统 对准 校准 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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