[发明专利]曝光系统对准及校准方法

说明书

提供一些方法，在一些实施方式中提供吸盘上的印刷板材的第一层的对准。举例来说，在一个实施方式中，捕获吸盘上的参考标记的影像，以确定吸盘上的这些参考标记的初始位置。从这些初始位置产生参考模型。捕获参考板材上的对准标记的影像，以及确定这些对准标记的位置。从这些对准标记的位置产生参考板材模型。接着从参考模型及参考板材模型产生映射模型。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及光刻，且更特别是涉及校准吸盘上的印刷层的对准。

背景技术

光刻被广泛地使用于半导体装置及显示器装置(例如液晶显示器(liquidcrystal display，LCD)的制造中。然而，在光刻曝光期间，吸盘(在其上执行曝光)可能因重复使用、应力及/或工具的机械及/或热变化而移动。这些变化可能影响印刷于板材上的图案的位置准确性。当试图从利用一工具被印刷的板材重复印刷图案于另一工具上时，印刷图案的位置也可能不正确。

因此，需要校准工具上的印刷层的对准。

发明内容

本文的实施方式大体涉及光刻，且更特别是涉及校准吸盘上的印刷层的对准。举例来说，在一个实施方式中，提供一种方法，所述方法捕获吸盘上的参考标记的影像，并确定这些参考标记的初始位置。从这些参考标记的初始位置产生参考模型。捕获参考板材上的对准标记的影像。确定这些对准标记的位置。从这些对准标记的位置产生参考板材模型。之后，从参考模型及参考板材模型产生映射模型。

在另一实施方式中，提供一种方法，所述方法从吸盘上的参考标记的初始位置产生参考模型，从第一参考板材上的对准标记的位置产生参考板材模型，以及从参考模型及参考板材模型产生映射模型。

在又一实施方式中，提供一种方法，所述方法捕获吸盘上的参考标记的影像，并确定吸盘上的这些参考标记的初始位置。之后，将这些参考标记的初始位置存储于存储器中，捕获参考板材上的对准标记的影像，并确定参考板材上的这些对准标记的位置且将参考板材上的这些对准标记的位置存储于存储器中。

本公开内容的其他实施方式被提供而包括具有类似于本文描述的方法的特征的其他方法、设备及系统。

附图说明

为了使本公开内容的上述特征能被详细地了解，可参照实施方式获得简要概述于上的本公开内容的更特定的描述。一些实施方式绘示于附图中。然而，应注意的是，附图仅绘示出本公开内容的典型实施方式且因而不视为本公开内容的范围的限制，因为本公开内容可允许其他等同有效的实施方式。

图1是可受益于本文公开的实施方式的系统的透视图。

图2是根据本文公开的实施方式的图1中所示的系统的俯视图。

图3绘示根据本文公开的实施方式的吸盘及参考板材的俯视图，吸盘具有参考标记，参考板材包括对准标记。

图4绘示根据本文公开的实施方式的吸盘及吸盘上的空白板材的俯视图。

图5A绘示根据本文公开的实施方式的吸盘上的参考板材的示例。

图5B绘示根据本文公开的实施方式利用基于图5A中所示的配置的校正模型于吸盘上印刷的板材的示例。

图6A绘示根据本文公开的实施方式的吸盘上的参考板材的示例。

图6B绘示根据本文公开的实施方式利用基于图5A中所示的配置的校正模型于吸盘上印刷的板材的示例。

图7绘示根据本文公开的实施方式的用于在吸盘上对准空白板材的处理单元的高阶方块图的实施方式。

图8绘示根据本文公开的实施方式的将印刷板材上的第一层与吸盘对准的方法的实施方式。

图9绘示根据本文公开的实施方式的将印刷板材上的第一层与吸盘对准的方法的实施方式。