[发明专利]具有良好气密性的抛光垫有效
| 申请号： | 201880046724.6 | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN110891734B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 尹晟勋;徐章源;安宰仁;尹锺旭;许惠映 | 申请（专利权）人： | SKC索密思株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/20 | 分类号： | B24B37/20;B24B37/22;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 实施例涉及在化学机械平坦化(CMP)工艺中使用且具有良好气密性的抛光垫，其中抛光垫在窗口开口的气密性是良好的，并且因此可防止在CMP工艺期间可能发生的水泄漏。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 良好 气密性 抛光 | ||
【主权项】：
暂无信息
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