[发明专利]用于表面测量仪的容纳设备有效
| 申请号： | 201880041355.1 | 申请日： | 2018-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN110770554B | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 彼得·施瓦兹 | 申请（专利权）人： | 毕克-加特纳有限责任公司 |
| 主分类号： | G01J3/52 | 分类号： | G01J3/52;G01N21/27 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王瑞朋;胡彬 |
| 地址： | 德国格*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于特别是光学的表面测量仪(1)的容纳设备(2)。该容纳设备具有基准测量面(4)，其可被置于遮盖状态中和开放状态中，在遮盖状态中基准测量面相对容纳设备(2)的周围环境得到遮盖，在开放状态中基准测量面相对容纳设备(2)的周围环境未得到遮盖。当表面测量仪(1)容纳在容纳设备(2)中并且基准测量面(4)处于开放状态中时，表面测量仪(1)能实施对基准测量面(4)的基准测量并通过利用该基准测量实施对表面测量仪(1)的校准。而当基准测量面(4)处于遮盖状态中时，它相对容纳设备(2)的周围环境未暴露并且因此得到保护例如免受灰尘、光线、湿气的影响或机械方面的影响。优选通过基准测量面(4)本身的运动或通过用于基准测量面(4)的盖板的运动实现基准测量面(4)的遮盖状态或者开放状态。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面 测量仪 容纳 设备 | ||
【主权项】：
1.用于特别是光学的表面测量仪(1)的容纳设备(2)，该容纳设备具有至少一个基准测量面(4)，该基准测量面能够被置于至少一个遮盖状态中和至少一个开放状态中，在所述遮盖状态中该基准测量面相对容纳设备(2)的周围环境得到遮盖，在所述开放状态中该基准测量面相对容纳设备(2)的周围环境未得到遮盖，因而表面测量仪(1)在其容纳在容纳设备(2)中并且所述至少一个基准测量面(4)处于所述至少一个开放状态中时能够实施对所述至少一个基准测量面(4)的基准测量。/n
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