[发明专利]X射线源和制造X射线源的方法在审
| 申请号： | 201880039644.8 | 申请日： | 2018-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN110785827A | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | R·K·O·贝林;T·施伦克;T·雷佩宁 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | H01J35/16 | 分类号： | H01J35/16 |
| 代理公司： | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 刘兆君 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供了一种用于生成X射线(11)的X射线源(10)。所述X射线源(10)包括：发射器装置(12)，其用于生成电子或者用于生成X射线；至少一个馈通部(38)，其用于向所述发射器装置(12)供应电力；以及绝缘体(20)，其被配置用于将所述至少一个馈通部(38)的电位与地电位隔离。其中，所述至少一个馈通部(38)至少部分地延伸穿过所述绝缘体(20)，并且所述绝缘体(20)的至少部分与所述发射器装置(12)的至少部分热接触。另外，所述绝缘体(20)包括至少一个冷却通道(28)，所述至少一个冷却通道被完全形成在所述绝缘体(20)的内部体积(25)中并被配置为消散来自所述发射器装置(12)的热量，其中，所述绝缘体(20)的外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的距离(29)至少等于所述冷却通道(20)的厚度(27)的一半。 | ||
| 搜索关键词： | 绝缘体 发射器装置 冷却通道 馈通 电位 供应电力 延伸穿过 地电位 热接触 配置 消散 隔离 | ||
【主权项】：
1.一种用于生成X射线(11)的X射线源(10)，所述X射线源(10)包括：/n发射器装置(12)，其用于生成电子或者用于生成X射线；/n至少一个馈通部(38)，其用于向所述发射器装置(12)供应电力；以及/n绝缘体(20)，其被配置用于将所述至少一个馈通部(38)的电位与地电位隔离；/n其中，所述至少一个馈通部(38)至少部分地延伸穿过所述绝缘体(20)；/n其中，所述绝缘体(20)的至少部分与所述发射器装置(12)的至少部分热接触；/n其中，所述绝缘体(20)包括至少一个冷却通道(28)，所述至少一个冷却通道被完全形成在所述绝缘体(20)的内部体积(25)中并被配置为消散来自所述发射器装置(12)的热量；/n其中，所述绝缘体(20)的外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的距离(29)至少等于所述冷却通道(20)的厚度(27)的一半；/n其中，所述冷却通道(28)沿着所述绝缘体(20)的周缘方向(40)至少部分地包围所述馈通部(38)；并且/n其中，所述绝缘体(20)的所述外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的所述距离(29)沿着所述周缘方向(40)是恒定的。/n
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