[发明专利]X射线源和制造X射线源的方法在审
| 申请号: | 201880039644.8 | 申请日: | 2018-06-14 |
| 公开(公告)号: | CN110785827A | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
| 发明(设计)人: | R·K·O·贝林;T·施伦克;T·雷佩宁 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号: | H01J35/16 | 分类号: | H01J35/16 |
| 代理公司: | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 刘兆君 |
| 地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 绝缘体 发射器装置 冷却通道 馈通 电位 供应电力 延伸穿过 地电位 热接触 配置 消散 隔离 | ||
提供了一种用于生成X射线(11)的X射线源(10)。所述X射线源(10)包括:发射器装置(12),其用于生成电子或者用于生成X射线;至少一个馈通部(38),其用于向所述发射器装置(12)供应电力;以及绝缘体(20),其被配置用于将所述至少一个馈通部(38)的电位与地电位隔离。其中,所述至少一个馈通部(38)至少部分地延伸穿过所述绝缘体(20),并且所述绝缘体(20)的至少部分与所述发射器装置(12)的至少部分热接触。另外,所述绝缘体(20)包括至少一个冷却通道(28),所述至少一个冷却通道被完全形成在所述绝缘体(20)的内部体积(25)中并被配置为消散来自所述发射器装置(12)的热量,其中,所述绝缘体(20)的外表面(26)与所述冷却通道(28)之间的距离(29)至少等于所述冷却通道(20)的厚度(27)的一半。
技术领域
本发明总体上涉及X射线成像。更具体地,本发明涉及用于生成X射线的X射线源、包括这种X射线源的X射线成像系统以及用于制造这种X射线源的方法。
背景技术
X射线源和/或X射线管通常由高压驱动,该高压经由电源被供应给X射线生成元件和/或X射线源的发射器装置。为了将电源的这些高压与地电位隔离,通常使用高压绝缘体,该高压绝缘体可以在外界压力与X射线源的真空室中的真空之间形成界面,在该真空室中可以布置X射线生成元件和/或发射器装置。
被布置在绝缘体的真空侧上的X射线源的部件和/或X射线源通常携带和/或包括发热部件,例如,X射线生成元件、阴极的部件和/或阳极的部件,该发热部件可以在X射线源的工作期间生成热量。
此外,在绝缘体的外界侧和/或X射线源上可能存在的X射线源的元件和/或部件,由于在X射线源的工作期间由发热部件生成的热量,X射线源的这些元件和/或部件可能会劣化。
US 2010/0111265 A1涉及一种高压X射线管,该高压X射线管具有:内部真空室,其被彼此相对定向地放置;阴极,其在工作条件下保持在负高压状态;以及阳极,其在工作条件下保持在正高压状态,其中,阳极被附接到阳极隔离元件,使得阳极隔离元件呈圆柱形形式或朝向阳极逐渐变细的形式并包括用以接收高压插头的开口并具有导体结构,冷却剂能够经由该导体结构被供应给阳极。该冷却剂具体能够是绝缘油或另一种非导电液体。导体结构能够例如被完全集成到阳极隔离元件的内部,但是也能够被集成到高压插头的表面。在另一种可能的解决方案中,导体结构被集成到位于阳极隔离元件与高压插头之间的中间元件。
DE 674415 C涉及一种用于液体冷却的真空(特别是X射线管)的绝缘高压保护壳体,该绝缘高压保护壳体具有用于管的容器和用于液体冷却剂的另一多个细分的容器。
发明内容
因此,需要一种允许在X射线源的工作期间有效且可靠地消散和/或泄除热量的改进的X射线源。因此,本发明的目的是提供一种具有改进的冷却单元并使使用寿命延长的改进且紧凑的X射线源。
本发明的目的通过独立权利要求的主题来解决,其中,在从属权利要求和以下描述中包括了其他实施例。
在一个方面中,提供了根据权利要求1所述的X射线源。在另一方面中,提供了根据权利要求13所述的X射线成像系统。在另一方面中,提供了根据权利要求14所述的制造X射线源的方法。
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