[发明专利]起偏振器保护膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201880037397.8 申请日: 2018-02-21
公开(公告)号: CN110720057B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 朴俊昱;林伊琅;金圣仁;金倞源 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14;G02B5/30;C08J7/04;C08J5/18;B29D11/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵丹;梁笑
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了起偏振器保护膜及其制造方法,并且更特别地,提供了制造能够表现出优异的物理和光学特性并且能够防止下偏光板受损的起偏振器保护膜的方法。
搜索关键词: 偏振 保护膜 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种起偏振器保护膜,包括:聚合物膜;和形成在所述聚合物膜的至少一个表面上的涂层,其中所述涂层具有复数个凹形压花图案并且具有2.0nm至20.0nm的表面粗糙度(Ra)。/n
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