[发明专利]膜、膜的光学均质性的评价方法及膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201880036712.5 申请日: 2018-05-30
公开(公告)号: CN110709451B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 野殿光纪;唐泽真义;岸田明子;牧寺雅巳;池内淳一 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08G73/10;G01N21/88;G01N21/958
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;唐峥
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供适合作为图像显示装置中的光学膜使用的、具有优异光学均质性的膜及该膜的制造方法。另外,本发明提供能够以比现有的评价方法更高的精度对膜的光学均质性进行评价的评价方法。本发明的膜为包含重均分子量为20万以上的树脂的流延膜,将对使用该膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得到的膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓分别设为线轮廓h及线轮廓v,将对在所述投影法中以不使用所述膜的方式得到的背景图像进行傅里叶变换而得到的背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓分别设为线轮廓h’及线轮廓v’,将从线轮廓h减去线轮廓h’而得到的线轮廓(h‑h’)的最大强度设为Ymh,将从显示出最大强度Ymh的频率减去经空白校正的线轮廓中的总频率的中央值Xcen而得到的值Xmax设为Xmh,将从线轮廓v减去线轮廓v’而得到的线轮廓(v‑v’)的最大强度设为Ymv,将从显示出最大强度Ymv的频率减去经空白校正的线轮廓中的总频率的中央值Xcen而得到的值Xmax设为Xmv时,Ymh及Ymv均为30以下,Ymh、Ymv、Xmh及Xmv满足特定式子。
搜索关键词: 光学 均质性 评价 方法 制造
【主权项】:
1.一种膜,其为包含重均分子量为20万以上的树脂的流延膜,其中,/n将膜逆空间图像中彼此正交的方向h及方向v的线轮廓分别设为线轮廓h及线轮廓v,所述膜逆空间图像是对使用所述膜由投影法得到的投影图像进行傅里叶变换而得到的,/n将背景逆空间图像中彼此正交的方向h’及方向v’的线轮廓分别设为线轮廓h’及线轮廓v’,所述背景逆空间图像是对在所述投影法中以不使用所述膜的方式得到的背景图像进行傅里叶变换而得到的,/n将从线轮廓h减去线轮廓h’而得到的线轮廓(h-h’)的最大强度设为Y
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社,未经住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880036712.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top