[发明专利]用于具有高空间分辨率的X射线束的特性化的方法及系统在审
| 申请号： | 201880029664.7 | 申请日： | 2018-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN110603437A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | A·毕卡诺维;N·亚提湄夫;J·A·迪雷戈洛;A·吉里纽;A·库兹涅佐夫;A·韦尔德曼;J·亨奇 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223;G01N23/2204 |
| 代理公司： | 11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文中描述用于在透射小角度X射线散射测量T‑SAXS计量系统中定位样品及特性化入射到所述样品上的x射线束的方法及系统。样品定位系统垂直地定位晶片且使所述晶片在六个自由度中相对于所述x射线照明束主动地定位而不衰减透射辐射。在一些实施例中，在测量透射通量的经检测强度时跨所述照明束扫描圆柱形遮挡元件以精确定位射束中心。在一些其它实施例中，采用周期性校准目标以精确定位所述射束中心。所述周期性校准目标包含具有将X射线照明光衍射成相异、可测量衍射图案的不同周期性结构的一或多个空间界定区。 | ||
| 搜索关键词： | 透射 周期性校准 样品定位系统 周期性结构 定位晶片 定位射束 定位样品 计量系统 空间界定 散射测量 射束中心 衍射图案 遮挡元件 垂直地 可测量 束扫描 照明光 晶片 衰减 通量 相异 衍射 测量 辐射 检测 | ||
【主权项】：
1.一种计量系统，其包括：/nx射线照明源，其经配置以产生入射于半导体晶片上的x射线照明束；/n样品定位系统，其经配置以在六个自由度中相对于所述x射线照明束主动地控制所述半导体晶片的位置，其中垂直于所述晶片的表面的向量大致垂直于在通过所述计量系统测量所述半导体晶片期间通过重力加诸于所述半导体晶片上的重力的方向；/nx射线检测器，其经配置以响应于所述入射x射线照明束而检测来自所述半导体晶片的第一量的x射线辐射；及/n计算系统，其经配置以确定特性化安置于所述半导体晶片上的结构的所关注参数的值。/n
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