[发明专利]计量方法和设备以及相关联的计算机程序有效
| 申请号： | 201880027592.2 | 申请日： | 2018-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN110546577B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 范期翔;M·范德沙尔;张幼平 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 崔卿虎 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种测量与结构形成过程有关的感兴趣参数(例如，套刻)的n个值的方法，其中n＞1。该方法包括：对n+1个目标中的每一个执行n个测量，每个测量利用具有不同波长和/或偏振组合的测量辐射来执行；以及从n+1个目标的n个测量中确定感兴趣参数的n个值，n个值中的每一个与针对不同成对的层的感兴趣参数有关。每个目标包括n+1个层，每个层包括周期性结构，目标包括具有利用相对于其他层的位置偏差形成的至少一个偏置周期性结构的至少n个偏置目标，在每个偏置目标中偏置周期性结构位于各层的至少一个不同层中。还公开了一种具有这样的目标的衬底以及一种用于形成这样的目标的图案化装置。 | ||
| 搜索关键词： | 计量 方法 设备 以及 相关 计算机 程序 | ||
【主权项】：
1.一种测量与用于在衬底上形成一个或多个结构的过程有关的感兴趣参数的n个值的方法，其中n＞1，所述方法包括：/n对n+1个目标中的每个目标执行n个测量，每个测量利用包括不同波长和/或偏振组合的测量辐射来被执行，每个目标包括n+1个层，每个层包括周期性结构，并且所述目标包括至少n个偏置目标，所述至少n个偏置目标具有利用相对于其他层的有意位置偏差形成的至少一个偏置周期性结构，在每个偏置目标中所述偏置周期性结构位于所述层的至少一个不同层处；以及/n从n+1个目标的所述n个测量中确定所述感兴趣参数的所述n个值，所述n个值中的每个值与针对不同成对的层的所述感兴趣参数有关。/n
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