[发明专利]计量方法和设备以及相关联的计算机程序

权利要求书

1.一种测量与用于在衬底上形成一个或多个结构的过程有关的感兴趣参数的n个值的方法，其中n＞1，所述方法包括：

对n+1个目标中的每个目标执行n个测量，每个测量利用包括不同波长和/或偏振组合的测量辐射来被执行，每个目标包括n+1个层，每个层包括周期性结构，并且所述目标包括至少n个偏置目标，所述至少n个偏置目标具有利用相对于其他层的有意位置偏差形成的至少一个偏置周期性结构，在每个偏置目标中所述偏置周期性结构位于所述层的至少一个不同层处，其中每个测量是强度不对称性测量，所述强度不对称性测量包括对从所述结构衍射之后的所述测量辐射的至少一对对应较高衍射阶进行比较；以及

从n+1个目标的所述n个测量中确定所述感兴趣参数的所述n个值，所述n个值中的每个值与针对不同成对的层的所述感兴趣参数有关。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述感兴趣参数是套刻，n个套刻值各自描述了在不同成对的层中形成的结构之间的无意位置偏移量。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述n+1个目标进一步包括非偏置目标，所述非偏置目标在其任何层中的所述周期性结构之间不具有有意位置偏差。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述确定包括：确定一维矩阵和二维方阵的逆矩阵的组合；其中：

所述二维方阵包括各自与第一维度中利用不同波长和/或偏振组合执行的测量有关的以及与第二维度中不同的测量计算项有关的元素；并且

所述一维矩阵与所述第一维度中利用不同波长和/或偏振组合执行的所述非偏置目标的测量有关。

5.根据权利要求2所述的方法，包括：在两个正交方向上确定所述n个套刻值，其中所述目标包括所述n+1个目标的两个集合，针对所述两个正交方向中的每个方向包括一个集合。

6.根据权利要求2所述的方法，其中所述目标中的至少一个目标的所述周期性结构中的至少一个周期性结构包括虚设结构，所述虚设结构具有可操作以将其对感兴趣套刻值的测量的影响最小化的配置，其中与所述虚设结构有关的套刻值被确定并且使用来校正所述感兴趣套刻值。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述n个偏置目标各自包括在所述n个偏置目标的上层中的一个不同层中的所述偏置周期性结构。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述目标中的每个目标是形成复合目标的一部分的子目标。

9.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：基于所确定的感兴趣参数的值来确定针对光刻过程的校正。

10.一种计量设备，可操作为执行根据权利要求1至9中的任一项所述的方法。

11.一种包括程序指令的计算机可读介质，所述程序指令可操作为在合适的设备上被运行时执行根据权利要求1至9中的任一项所述的方法。