[发明专利]高吞吐量真空沉积源及系统在审
| 申请号： | 201880013970.1 | 申请日： | 2018-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN110382732A | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 郭信生 | 申请（专利权）人： | 亚升技术公司;郭信生 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/35;C23C14/50;C23C16/458;C23C16/46;C23C16/50;C23C16/54;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京君尚知识产权代理有限公司 11200 | 代理人： | 余长江 |
| 地址： | 美国加利福尼亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了高吞吐量真空沉积源及系统。一种高吞吐量沉积装置，包括一处理室，在该处理室中形成第一闭环的多个靶，其中，所述第一闭环包括由至少第一对靶定义的一长维度以及由至少第二对靶定义的一短维度，第一衬底基板载体组件，其可承载一或多个衬底基板，并配置为接受来自所述第一闭环的多个靶的沉积材料，和一传送机构，所述传送机构可移动所述第一衬底基板载体组件沿轴向方向通过所述第一处理室中的所述第一闭环。 | ||
| 搜索关键词： | 闭环 衬底基板 高吞吐量 真空沉积源 传送机构 载体组件 对靶 第一处理室 沉积材料 沉积装置 轴向方向 可移动 长维 维度 承载 配置 | ||
【主权项】：
1.一种高吞吐量沉积装置，包括：处理室；多个靶，其形成所述处理室的第一闭环，其中，所述第一闭环包括由至少第一对靶定义的长维度和由至少第二对靶定义的短维度；第一衬底基板载体组件，其承载一或多个衬底基板，并接受来自所述第一闭环的所述多个靶的沉积材料；以及传送机构，其配置成移动所述第一衬底基板载体组件沿轴向通过第一处理室中的所述第一闭环。
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