[发明专利]高吞吐量真空沉积源及系统

权利要求书

1.一种高吞吐量沉积装置，包括：

处理室；

多个靶，其形成所述处理室的第一闭环，其中，所述第一闭环包括由至少第一对靶定义的长维度和由至少第二对靶定义的短维度；

第一衬底基板载体组件，其承载一或多个衬底基板，并接受来自所述第一闭环的所述多个靶的沉积材料；以及

传送机构，其配置成移动所述第一衬底基板载体组件沿轴向通过第一处理室中的所述第一闭环。

2.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，靶沿所述第一闭环排列，靶的边缘与中心靶面形成角度。

3.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，一或多个衬底基板具有一或多个平面沉积表面，用以接受沉积材料，所述一或多个平面沉积表面平行于所述第一闭环的长维度。

4.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述第一衬底载体组件包括：

多个夹具以及背靠背由所述夹具加紧的一对衬底基板，该对衬底基板包含相反方向表面，用以接受来自所述第一闭环的所述多个靶的沉积材料。

5.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述第一衬底载体组件包括：

加热板，用以加热一或多个衬底基板。

6.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述第一衬底载体组件包括：

第一衬底基板，其包含相反方向表面，用以接受来自所述第一闭环的所述多个靶的沉积材料。

7.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述传送机构包括：

轮子，其安装在所述第一衬底基板载体组件下方，并沿轴向滚动。

8.如权利要求7所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述第一衬底基板载体组件还包括位于一或多个衬底基板下方和所述轮子上方的缓冲材料。

9.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述第一闭环定义的平面与轴向垂直。

10.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述装置还包括：

多个靶在所述处理室内形成第二闭环，其中，所述第二闭环包括由至少第三对靶定义的长维度和由至少第四对靶定义的短维度；以及

第二衬底基板载体组件，其承载一或多个衬底基板，并接受来自所述第二闭环的所述多个靶的沉积材料，

所述传送结构沿轴向移动所述第二衬底基板载体组件通过第一处理室的所述第二闭环。

11.如权利要求10所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述第二衬底基板载体组件包括：

多个夹具以及背靠背由所述夹具加紧的一对衬底基板。

12.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述装置还包括：

安装在一个轴上的一组沉积遮挡板，该轴的位置临近所述处理室中所述第一闭环的所述多个靶；以及旋转机构，其旋转所述轴以使该组遮挡板中不同的遮挡板阻挡来自所述多个靶的部分沉积材料。

13.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述装置还包括：

多个磁铁，其形成所述处理室中的第三闭环；

所述多个磁体，其放置于由多个靶形成的所述第一闭环外侧。

14.如权利要求1所述的高吞吐量沉积装置，其特征在于，所述装置还包括：

靶垫板，作为包含多个靶的沉积源的一部分；

至少一个弹性密封件，其位于所述靶垫板与所述多个靶之间；以及

所述多个靶与所述靶垫板之间的通道，该通道用以传输气体以冷却所述多个靶。