[发明专利]通过图案形成装置上的有限厚度的结构确定辐射的散射的方法有效
| 申请号： | 201880013152.1 | 申请日： | 2018-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN110337614B | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 刘鹏;罗亚;曹宇;卢彦文 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F30/392;G06N3/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种方法，包括：获得设计布局的一部分的特性；确定包括或构成所述部分的图案形成装置的M3D的特性；通过使用计算机，使用包括样本的训练数据训练神经网络，所述样本的特征向量包括所述部分的特性并且所述样本的监督信号包括M3D的特性。还公开了一种方法，包括：获得设计布局的一部分的特性；获得使用包括或构成所述部分的图案形成装置的光刻过程的特性；确定所述光刻过程的结果的特性；通过使用计算机，使用包括样本的训练数据训练神经网络，所述样本的特征向量包括所述部分的特性和所述光刻过程的特性，并且所述样本的监督信号包括所述结果的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 图案 形成 装置 有限 厚度 结构 确定 辐射 散射 方法 | ||
【主权项】：
1.一种方法，包括：获得设计布局的一部分的特性的值；确定包括或构成所述部分的图案形成装置的M3D的特性的值；和通过硬件计算机，使用包括样本的训练数据训练神经网络，所述样本的特征向量包括所述部分的特性并且所述样本的监督信号包括M3D的特性。
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