[发明专利]量测方法和设备以及关联的计算机产品有效
| 申请号： | 201880010063.1 | 申请日： | 2018-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN110249268B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | A·J·乌尔班奇克;H·范德拉恩;阿尔伯托·达科斯特阿萨法劳;曾倩虹;杰伊·健辉·陈;G·格热拉 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01N21/47;H01L21/66;G01N21/956 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种过程监测方法和一种关联的量测设备。该方法包括：将与实际目标(1000)的测量响应有关的测量到的目标响应光谱序列数据(1010)和与如所设计的目标的测量响应有关的等效参考目标响应序列数据(1030)进行比较(1020)；以及基于所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据的所述比较来执行(1040)过程监测动作。该方法还可以包括根据测量到的目标响应光谱序列数据和参考目标响应光谱序列数据来确定(1050)叠层参数。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 设备 以及 关联 计算机 产品 | ||
【主权项】：
1.一种过程监测方法，包括：获得与由光刻过程形成在衬底上的一个或更多个目标对测量辐射的测量响应有关的测量到的目标响应序列数据，所述测量辐射包括多个测量轮廓；获得与所设计的所述一个或更多个目标对所述测量辐射的测量响应有关的参考目标响应序列数据；比较所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据；以及基于所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据的比较来执行过程监测动作。
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