[发明专利]量测方法和设备以及关联的计算机产品

权利要求书

1.一种过程监测方法，包括：

获得与由光刻过程形成在衬底上的一个或更多个目标对测量辐射的测量响应有关的测量到的目标响应序列数据，所述测量辐射包括多个测量轮廓，其中所述测量到的目标响应序列数据描述在所述多个测量轮廓中具有变化的情况下，所述一个或更多个目标的所述测量响应的变化；

获得与所设计的所述一个或更多个目标对所述测量辐射的测量响应有关的参考目标响应序列数据，其中所述参考目标响应序列数据描述在没有非设计变化的情况下，所述一个或更多个目标的响应于设计的多个测量轮廓的优化的测量响应；

比较所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据；以及

基于所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据的比较来确定测量有效性。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述比较步骤包括确定与所述测量到的目标响应序列数据和所述参考目标响应序列数据的相似性有关的相似性指标。

3.如权利要求2所述的方法，其中，

所述比较步骤包括将所述相似性指标与阈值相似性指标进行比较；并且

所述确定测量有效性的步骤包括基于所述相似性指标与所述阈值相似性指标的所述比较来确定所述测量有效性，所述测量有效性与使用具有对应的测量轮廓的测量辐射根据目标-测量参数组合对所述一个或更多个目标进行的测量的有效性有关。

4.如权利要求3所述的方法，其中，所述目标-测量参数组合包括在之前的优化步骤中确定的被优化的目标-测量参数组合。

5.如权利要求4所述的方法，还包括执行所述优化步骤。

6.如权利要求4所述的方法，其中，在所述优化步骤中确定所述参考目标响应序列数据。

7.如权利要求3至6中任一项所述的方法，其中，在所述相似性指标与所述阈值相似性指标的所述比较指示太大的不相似性的情况下，所述测量有效性被认为是无效的，否则所述测量有效性被认为是有效的。

8.如权利要求7所述的方法，还包括，在所述测量有效性被认为是无效的情况下，执行优化更新步骤以确定针对所测量的所述一个或更多个目标进行优化的测量轮廓。

9.如权利要求8所述的方法，其中，所述优化更新步骤包括基于所述测量到的目标响应序列数据的在线测量轮廓优化。

10.如权利要求7所述的方法，还包括，在所述测量有效性被认为是无效的情况下，选择不同的一个或更多个目标以供测量。

11.如权利要求7所述的方法，还包括，在所述测量有效性被认为是无效的情况下，包括对所述光刻过程执行校正动作。

12.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，使用动态时间规整算法来执行所述将所述测量到的目标响应序列数据与所述参考目标响应序列数据进行比较的步骤。

13.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，所述测量到的目标响应序列数据和参考目标响应序列数据每个包括描述所述目标响应随测量辐射波长的变化的数据。

14.如权利要求1至6中任一项所述的方法，其中，依据强度指标来确定所述测量到的目标响应序列数据和参考目标响应序列数据。

15.如权利要求14所述的方法，其中，所述强度指标包括从对应的成对的非零衍射阶之间的强度差导出的强度不对称性指标。

16.如权利要求15所述的方法，其中，所述强度不对称性指标包括重叠灵敏度，所述重叠灵敏度包括在目标的周期性结构之间的重叠偏移的函数与所述强度差之间的关系中的比例常数。