[发明专利]基于忆阻器件过渡金属氧化物的碱性掺杂的忆阻器件在审
申请号: | 201880006821.2 | 申请日: | 2018-01-03 |
公开(公告)号: | CN110168761A | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | T·S·格申;K·W·布鲁;S·辛格;D·纽恩斯 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 酆迅;辛鸣 |
地址: | 美国纽*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 忆阻器件包括第一导电材料层。氧化物材料层被布置在第一导电层上。第二导电材料层被布置在氧化物材料层上,其中第二导电层包括金属‑碱合金。 | ||
搜索关键词: | 导电材料层 氧化物材料 过渡金属氧化物 第二导电层 第一导电层 掺杂的 合金 金属 | ||
【主权项】:
1.一种忆阻器件,包括:第一导电材料层;氧化物材料层,被布置在所述第一导电层上;以及第二导电材料层,被布置在所述氧化物材料层上,其中所述第二导电材料层包括金属‑碱合金。
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