[实用新型]清洗抛光陶瓷盘的装置及具有其的抛光设备有效
| 申请号： | 201822273391.0 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN209425256U | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 曾文昌;刘林艳;杨凯 | 申请（专利权）人： | 徐州鑫晶半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B55/06 | 分类号： | B24B55/06;B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 221004 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种清洗抛光陶瓷盘的装置及具有其的抛光设备，其中，清洗抛光陶瓷盘的装置包括：托盘，其内限定出上端敞开的喷淋空间，喷淋空间底部设有第一喷淋设备，托盘可旋转地设在拖杆上；陶瓷盘，其设在托盘上且封闭喷淋空间，陶瓷盘的正面上设有硅片；挡水腔，其可升降的穿过拖杆且环绕陶瓷盘设置，挡水腔的上端敞口；第二喷淋设备，其可移动的设在陶瓷盘的上方。采用该装置可以对陶瓷盘的正面和背面均进行清洗，从而有效避免陶瓷盘移送过程中，携带抛光后硅片的陶瓷盘背面上残留抛光液和其结晶形成的颗粒以及其他颗粒对后续的装置和硅片质量产生影响。 | ||
| 搜索关键词： | 陶瓷盘 喷淋 托盘 清洗抛光 硅片 抛光设备 挡水腔 拖杆 背面 本实用新型 结晶形成 上端敞口 质量产生 可升降 可旋转 可移动 抛光液 抛光 上端 清洗 残留 穿过 环绕 敞开 携带 封闭 | ||
【主权项】：
1.一种清洗抛光陶瓷盘的装置，其特征在于，包括：托盘，所述托盘内限定出上端敞开的喷淋空间，所述喷淋空间底部设有第一喷淋设备，并且所述托盘可旋转地设在拖杆上；陶瓷盘，所述陶瓷盘设在所述托盘上且封闭所述喷淋空间，所述陶瓷盘的正面上设有硅片；挡水腔，所述挡水腔可升降的穿过所述拖杆且环绕所述陶瓷盘设置，并且所述挡水腔的上端敞口；第二喷淋设备，所述第二喷淋设备可移动的设在所述陶瓷盘的上方。
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