[实用新型]清洗抛光陶瓷盘的装置及具有其的抛光设备有效
| 申请号： | 201822273391.0 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN209425256U | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 曾文昌;刘林艳;杨凯 | 申请（专利权）人： | 徐州鑫晶半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B55/06 | 分类号： | B24B55/06;B08B3/02 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 221004 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 陶瓷盘 喷淋 托盘 清洗抛光 硅片 抛光设备 挡水腔 拖杆 背面 本实用新型 结晶形成 上端敞口 质量产生 可升降 可旋转 可移动 抛光液 抛光 上端 清洗 残留 穿过 环绕 敞开 携带 封闭 | ||
1.一种清洗抛光陶瓷盘的装置，其特征在于，包括：
托盘，所述托盘内限定出上端敞开的喷淋空间，所述喷淋空间底部设有第一喷淋设备，并且所述托盘可旋转地设在拖杆上；
陶瓷盘，所述陶瓷盘设在所述托盘上且封闭所述喷淋空间，所述陶瓷盘的正面上设有硅片；
挡水腔，所述挡水腔可升降的穿过所述拖杆且环绕所述陶瓷盘设置，并且所述挡水腔的上端敞口；
第二喷淋设备，所述第二喷淋设备可移动的设在所述陶瓷盘的上方。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一喷淋设备可上下移动和/或可旋转设在所述喷淋空间底部。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述拖杆包括自上而下设置的第一拖杆部和第二拖杆部，所述第一拖杆部的直径小于所述第二拖杆部。
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述挡水腔穿过所述第一拖杆部且在所述第二拖杆部和所述托盘底部之间可移动。
5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述陶瓷盘的正面与所述托盘以真空吸附方式接触。
6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述挡水腔的上端形成挡水部，在自下而上的方向上，所述挡水部的横截面面积逐渐减小。
7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第二喷淋设备包括相连的喷淋头和喷淋管，所述喷淋头可旋转地设在所述陶瓷盘的上方，所述喷淋管可上下移动设置。
8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述喷淋头高于所述挡水腔上端设置。
9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，进一步包括：毛刷，所述毛刷可移动的设在所述陶瓷盘上方。
10.一种抛光设备，其特征在于，所述抛光设备具有权利要求1-9中任一项所述的清洗抛光陶瓷盘的装置。
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