[实用新型]一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置

摘要

本实用新型适用于真空镀膜技术领域，提供了一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置,包括盘形仓和镀膜筒，盘形仓具体为两个，两个盘形仓分别安装在镀膜筒的两端，镀膜筒的端部位于盘形仓的上部且与盘形仓的内部相连通，两个盘形仓内分别设有第一收开卷盘和第二收开卷盘，第一收开卷盘和第二收开卷盘上均安装有驱动轴，驱动轴位于盘形仓外部的一端安装有驱动电机，镀膜筒前侧的上部铰接有密封门，镀膜筒内部中心一侧的上表面安设有上镀膜头，镀膜筒内部中心远离镀膜头一侧的下表面固定安设有下镀膜头。本实用新型结构简单，操作使用方便，在使用过程中抽真空较为方便快捷，有利于进行推广使用。

主权项

1.一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置,包括盘形仓和镀膜筒，其特征在于，所述盘形仓具体为两个，两个所述盘形仓分别安装在镀膜筒的两端，所述镀膜筒的端部位于盘形仓的上部且与盘形仓的内部相连通，两个所述盘形仓内分别设有第一收开卷盘和第二收开卷盘，所述第一收开卷盘和第二收开卷盘上均安装有驱动轴，所述驱动轴位于盘形仓外部的一端安装有驱动电机，所述驱动电机通过安装座安装在盘形仓外部的后侧面，所述镀膜筒前侧的上部铰接有密封门，所述镀膜筒内部中心一侧的上表面安设有上镀膜头，所述镀膜筒内部中心远离镀膜头一侧的下表面固定安设有下镀膜头，所述镀膜筒外部下表面的两端安设有支撑柱，所述支撑柱的下端安设有支撑座。