[实用新型]一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置

权利要求书

1.一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置,包括盘形仓和镀膜筒，其特征在于，所述盘形仓具体为两个，两个所述盘形仓分别安装在镀膜筒的两端，所述镀膜筒的端部位于盘形仓的上部且与盘形仓的内部相连通，两个所述盘形仓内分别设有第一收开卷盘和第二收开卷盘，所述第一收开卷盘和第二收开卷盘上均安装有驱动轴，所述驱动轴位于盘形仓外部的一端安装有驱动电机，所述驱动电机通过安装座安装在盘形仓外部的后侧面，所述镀膜筒前侧的上部铰接有密封门，所述镀膜筒内部中心一侧的上表面安设有上镀膜头，所述镀膜筒内部中心远离镀膜头一侧的下表面固定安设有下镀膜头，所述镀膜筒外部下表面的两端安设有支撑柱，所述支撑柱的下端安设有支撑座。

2.如权利要求1所述的一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述密封门包括盘形密封区和筒形密封区，所述盘形密封区位于筒形密封区的两端，所述密封门呈盖合状态时，所述筒形密封区与镀膜筒前侧的开口相盖合，所述盘形密封区与相对应的盘形仓的前侧开口相盖合。

3.如权利要求2所述的一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置，其特征在于， 所述盘形密封区的中部开设有开口并安设有观察窗。

4.如权利要求1所述的一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述镀膜筒中部的上下两侧均固定安设有外设备接口，所述外设备接口与镀膜筒的内部之间相连通。

5.如权利要求1所述的一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述支撑座的下表面四角安设有支撑轮。

6.如权利要求1所述的一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置，其特征在于，所述镀膜筒与盘形仓之间的相连接处安设有导引辊轮，两个导引辊轮的上侧面之间的连线位于镀膜筒内部的中心。