[实用新型]一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置

说明书

本实用新型适用于真空镀膜技术领域，提供了一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置,包括盘形仓和镀膜筒，盘形仓具体为两个，两个盘形仓分别安装在镀膜筒的两端，镀膜筒的端部位于盘形仓的上部且与盘形仓的内部相连通，两个盘形仓内分别设有第一收开卷盘和第二收开卷盘，第一收开卷盘和第二收开卷盘上均安装有驱动轴，驱动轴位于盘形仓外部的一端安装有驱动电机，镀膜筒前侧的上部铰接有密封门，镀膜筒内部中心一侧的上表面安设有上镀膜头，镀膜筒内部中心远离镀膜头一侧的下表面固定安设有下镀膜头。本实用新型结构简单，操作使用方便，在使用过程中抽真空较为方便快捷，有利于进行推广使用。

技术领域

本实用新型属于真空镀膜技术领域，尤其涉及一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜是指在真空室内通过热蒸发或者磁控溅射等方法在卷料基材表面制备一层或者多层具有一定功能的薄膜的技术。

其中在使用磁控溅射方法对基材进行双面卷绕真空镀膜时，传统装置的真空室较大，因此使得真空室的抽真空变得较为不便和缓慢，且进一步的提高了整个镀膜过程中的成本。为此，我们提出了一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置。

实用新型内容

本实用新型提供一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置，旨在解决传统真空镀膜装置的真空室较大，因此使得真空室的抽真空变得较为不便，且进一步的提高了整个镀膜过程中的成本的问题。

本实用新型是这样实现的，一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置，包括盘形仓和镀膜筒，所述盘形仓具体为两个，两个所述盘形仓分别安装在镀膜筒的两端，所述镀膜筒的端部位于盘形仓的上部且与盘形仓的内部相连通，两个所述盘形仓内分别设有第一收开卷盘和第二收开卷盘，所述第一收开卷盘和第二收开卷盘上均安装有驱动轴，所述驱动轴位于盘形仓外部的一端安装有驱动电机，所述驱动电机通过安装座安装在盘形仓外部的后侧面，所述镀膜筒前侧的上部铰接有密封门，所述镀膜筒内部中心一侧的上表面安设有上镀膜头，所述镀膜筒内部中心远离镀膜头一侧的下表面固定安设有下镀膜头，所述镀膜筒外部下表面的两端安设有支撑柱，所述支撑柱的下端安设有支撑座。

更进一步地，所述密封门包括盘形密封区和筒形密封区，所述盘形密封区位于筒形密封区的两端，所述密封门呈盖合状态时，所述筒形密封区与镀膜筒前侧的开口相盖合，所述盘形密封区与相对应的盘形仓的前侧开口相盖合。

更进一步地，所述盘形密封区的中部开设有开口并安设有观察窗。

更进一步地，所述镀膜筒中部的上下两侧均固定安设有外设备接口，所述外设备接口与镀膜筒的内部之间相连通。

更进一步地，所述支撑座的下表面四角安设有支撑轮。

更进一步地，所述镀膜筒与盘形仓之间的相连接处安设有导引辊轮，两个导引辊轮的上侧面之间的连线位于镀膜筒内部的中心。

本实用新型所达到的有益效果在于，本方案在使用的过程中，密封门初始为打开状态，并通过外设备接口使得真空镀膜装置与外部的辅助设备进行连接，此时将待镀膜的盘状基材放置在第一收开卷盘，并将基材的端部通过镀膜筒引入至第二收开卷盘，此时同时启动上镀膜头、下镀膜头和驱动电机，并在盖合密封门的情况下对盘形仓及镀膜筒之间的空间进行抽真空；在驱动电机的转动下，能够使得基材在第一收开卷盘上开卷并经过镀膜筒后在第二收开卷盘进行收卷，第一收开卷盘及第二收开卷盘分别通过驱动电机进行带动的情况下，能够避免基材受到较大的拉扯，有利于避免基材受到拉扯而变形的情况的发生；基材在通过镀膜筒的过程中，其上下表面能够在上镀膜头和下镀膜头的工作下进行镀膜，即实现双面镀膜，且整个真空镀膜装置的镀膜筒的内部的空间较小，因此使得针对盘形仓及镀膜筒之间的抽真空变的方便快捷，进一步的有利于降低整个镀膜过程的成本，且整个真空镀膜装置的结构简单，操作使用方便，有利于进行推广使用。

附图说明

图1是本实用新型提供的一种磁控溅射双面卷绕真空镀膜装置的内部结构示意图。