[实用新型]投影器和深度相机有效

专利信息
申请号: 201822058368.X 申请日: 2018-12-07
公开(公告)号: CN209435353U 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 许星;陈醒身 申请(专利权)人: 深圳奥比中光科技有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31;H04N9/04;G03B21/20;G03B21/16
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 张全文
地址: 518000 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及深度相机的技术领域,提供了一种投影器和深度相机,包括光源、准直单元和衍射单元;准直单元位于光源与衍射单元之间,且准直单元汇聚光源发出的光线以形成平行光束投射在衍射单元上,衍射单元将平行光束投射到预定空间内形成预定图案;光源包括至少两个发光阵列,各发光阵列分别包括半导体衬底和设置在半导体衬底上的多个发光件。至少两个发光阵列被独立控制,开启不同的发光阵列能够使得投影器的产生不同功率的输出。
搜索关键词: 发光阵列 衍射单元 光源 深度相机 准直单元 投影器 平行光束 衬底 投射 半导体 本实用新型 独立控制 预定空间 预定图案 发光件 汇聚 输出
【主权项】:
1.一种投影器,其特征在于:包括光源、准直单元和衍射单元;所述准直单元位于所述光源与所述衍射单元之间,且所述准直单元汇聚所述光源发出的光线以形成平行光束投射在所述衍射单元上,所述衍射单元将所述平行光束投射到预定空间内形成预定图案;所述光源包括至少两个发光阵列,各所述发光阵列分别包括半导体衬底和设置在所述半导体衬底上的多个发光件,所述至少两个发光阵列被独立控制。
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