[实用新型]用于微水束与激光耦合的高压微水束的射流装置有效
申请号: | 201822032479.3 | 申请日: | 2018-12-05 |
公开(公告)号: | CN209614568U | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 蒋兴桥;马岩;荣宇;李东旭;陈立新 | 申请(专利权)人: | 沈阳仪表科学研究院有限公司 |
主分类号: | B23K26/146 | 分类号: | B23K26/146 |
代理公司: | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 | 代理人: | 郭元艺 |
地址: | 110043 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型属微细射流水束与高能激光束耦合加工晶圆的技术领域,特别涉及一种用于微水束与激光耦合的高压微水束的射流装置,包括安装支架(1)、二维微调平台(2)及射流腔体(3);所述二维微调平台(2)与安装支架(1)固定相接;所述射流腔体(3)固定置于二维微调平台(2)中部;所述在二维微调平台(2)中心设有中心通孔(22)。本实用新型加工效率高,加工质量理想,可满足微水束与激光束耦合加工工艺需求,有效提升晶圆加工工艺水平。 | ||
搜索关键词: | 微水 二维微调 本实用新型 安装支架 激光耦合 射流腔体 射流装置 耦合 晶圆加工工艺 高能激光束 固定相接 加工效率 射流水束 中心通孔 微细 激光束 晶圆 加工 | ||
【主权项】:
1.一种用于微水束与激光耦合的高压微水束的射流装置,其特征在于:包括安装支架(1)、二维微调平台(2)及射流腔体(3);所述二维微调平台(2)与安装支架(1)固定相接;所述射流腔体(3)固定置于二维微调平台(2)中部;所述在二维微调平台(2)中心设有中心通孔(22)。
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