[实用新型]成膜装置有效
| 申请号： | 201821666566.8 | 申请日： | 2018-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN209065995U | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 长江亦周;尹诗流;马图腾;宫内充祐 | 申请（专利权）人： | 株式会社新柯隆 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 党晓林 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本申请公开一种成膜装置，包括：真空容器；位于所述真空容器内的基板支架，其具有用于保持基板的基板保持面；位于所述真空容器内的成膜单元，其用于在所述基板上形成薄膜；位于所述真空容器内的照射单元，其用于向所述基板支架发射粒子；所述照射单元能使所述基板保持面的电位状态为单一电位。本申请提供的成膜装置在成膜过程中不会产生异常放电，保证薄膜形成过程的稳定，提升成膜质量。 | ||
| 搜索关键词： | 真空容器 成膜装置 基板支架 照射单元 基板 电位 薄膜形成过程 基板保持面 成膜单元 成膜过程 电位状态 基板保持 异常放电 成膜 薄膜 申请 粒子 发射 保证 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，其特征在于，包括：真空容器；位于所述真空容器内的基板支架，其具有用于保持基板的基板保持面；位于所述真空容器内的成膜单元，其用于在所述基板上形成薄膜；位于所述真空容器内的照射单元，其用于向所述基板支架发射粒子；所述照射单元能使所述基板保持面的电位状态为单一电位。
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